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四栅网式离子能量分析仪栅网特性研究

潘永强 , 王飞飞 , 杭凌侠 , 弥谦

表面技术

为了研究等离子体中离子能量的分布规律,基于栅网式离子能量测试原理,采用离子光学模拟软件Simion7.0,对四栅网离子能量分析仪中网格大小和网格间距对离子能量测量结果的影响进行了理论分析.分析结果表明,当离子能量为800 eV左右时,网格尺寸的大小会影响离子能量的测量精度,网格间距的大小对离子能量的测量结果几乎不产生影响.该研究结果对栅网式离子能量测试装置的设计及网格参数的优化具有重要的理论和实践指导意义.

关键词: 离子能量 , 栅网式能量分析仪 , Simion模拟 , 四栅网

高离化率物理气相沉积涂层的研究进展

钟厉 , 龙永杰

表面技术 doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.06.015

高离化率物理气相沉积是一种新发展起来的脉冲磁控溅射技术(HPPMS),具有溅射靶材原子高度离化与峰值功率超过平均功率等特点.它作为一种新型的离子化物理气相沉积技术,在国内外已经成为一个研究热点,其离子体特性、涂层工艺、高功率脉冲放电等备受国内外学者关注.沉积过程中,离子随着电子碰撞与电荷交换发生电离,并按照双极性扩散理论进行传递.在不同工作气压条件下,离子能量分布表现出不同的特点.在放电过程中使用高的峰值功率脉冲(超出一般沉积技术2~3个数量级)与低脉冲占空比(0.5%~10%)实现高电离(>50%),从而表现出了优良的结合力,在控制涂层结构与降低涂层的内部压力等方面有相当大的优势.从HPPMS技术制备涂层的应用现状出发,介绍了高离化率物理气相沉积涂层的特点、优势以及在制备复合涂层和涂层界面优化等方面的研究进展.探讨了高离化率物理气相沉积涂层的未来发展趋势,对涂层的应用效果进行了分析.

关键词: 高离化率物理气相沉积 , 膜基结合力 , 涂层特性 , 硬质涂层 , 峰值功率 , 离子能量

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