古昕
,
刘伟
,
潘克新
,
张珂
,
袁海清
,
王亦曼
,
王金淑
,
李季
,
周美玲
功能材料
为了改进氧化钪的分布均匀性及提高阴极表面氧化钪的扩散补充能力,作者在前期研究的基础上,分别采用液固掺杂和液液掺杂的方法制备了Sc2O3掺杂W粉基材,研究了利用这种W粉制作多孔钨基体的工艺技术和多孔体的微观结构.研究表明在改进压制、烧结技术的基础上,可以获得具有适当孔度的亚微米结构多孔基体.氧化钪在基体中的分布得到进一步改进.在这种基体中铝酸盐的浸渍率可以达到常规浸渍阴极的要求.发射试验结果表明,阴极具有很高的发射水平.研究还证实多孔体的结构越趋细微,越有利于阴极的发射均匀性和耐离子轰击的性能的改善.
关键词:
钪钨阴极
,
离子轰击
,
氧化钪
,
显微结构
,
电子发射性能
王金淑
,
陶斯武
,
王亦曼
,
李洪义
,
张久兴
,
周美玲
稀有金属材料与工程
采用氧化钪与钨机械混合、氧化钨与钪盐水溶液固液掺杂法制备了氧化钪-钨基体,采用扫描电镜及原位俄歇电子能谱方法研究了基体中钪的分布及阴极基体的抗离子轰击性能.结果表明,采用液固法制备的烧结体,氧化钪分布均匀,这样的结构有利于钪的扩散和补充,原位俄歇轰击实验结果表明,阴极基体具有良好的耐高温和耐离子轰击性.
关键词:
钪系阴极
,
表面行为
,
离子轰击
,
氧化钪
,
显微结构
徐幸梓
,
王必本
,
高凤英
,
张力
,
曾丁丁
材料导报
用CH4、NH3和H2为反应气体,利用等离子体增强热丝化学气相沉积系统在沉积有碳膜的Si衬底上制备了碳尖端.利用原子力显微镜和显微Raman光谱仪对沉积的碳膜表征的结果表明碳膜是非晶碳膜,并且粗糙不平.用扫描电子显微镜对碳尖端表征的结果表明碳尖端的形貌与偏压电流有关,即随着偏压电流的增大,碳尖端的顶角减小,高度增大.由于在碳尖端形成的过程中,既有离子的沉积又有离子的溅射,结合有关等离子沉积和溅射的理论,建立了碳尖端的形成模型,并根据模型分析了实验结果.
关键词:
碳尖端
,
等离子体
,
化学气相沉积
,
离子轰击
陈小文
,
白新德
,
薛祥义
稀有金属材料与工程
综述了堆内辐照对锆合金电化学性能影响的概况,浅析了堆内辐照损伤的机理,并重点探讨了主要的堆内辐照源--中子辐照对锆合金微观结构与氧化性能的影响.进一步阐述了堆外离子轰击模拟堆内中子辐照研究方法的进展概况,并就离子轰击实验参量的选择进行了较为深入的分析.
关键词:
锆合金
,
辐照损伤
,
中子辐照
,
离子轰击
蔡航伟
,
高原
,
马志康
,
王成磊
机械工程材料
利用双辉等离子渗金属技术在0Cr18Ni9Ti奥氏体不锈钢表面制备了一层均匀、致密、呈良好冶金结合的渗锆合金层,并对1 060℃下的渗锆动力学进行了研究.结果表明:随着距锆合金层表面距离的增加,锆元素的含量呈梯度递减,扩散系数逐渐减小,而扩散激活能逐步增大;在1 060℃采用双辉等离子技术渗锆时,渗锆合金层表层的空位密度为2.945×(1012～1013) cm-2,与相同温度下采用常规渗金属工艺相比,提高了1～2个数量级.
关键词:
双辉等离子渗金属技术
,
渗锆合金层
,
离子轰击
,
动力学
,
空位密度
徐幸梓
,
刘天模
,
曾丁丁
,
张兵
,
刘凤艳
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2004.04.045
由于金刚石与Si有较大的表面能差,利用化学气相沉积(CVD)制备金刚石膜时,金刚石在镜面光滑的Si表面上成核困难,而负衬底偏压能够增强金刚石在镜面光滑Si表面上的成核,表明金刚石核与Si表面的结合力也得到增强.本文分析衬底负偏压引起的离子轰击对Si表面产生的影响之后,基于离子轰击使得Si衬底表面产生了微缺陷(凹坑)增大了金刚石膜与Si衬底结合的面积,理论研究了离子轰击对金刚石膜与Si衬底结合力的影响.
关键词:
金刚石膜
,
离子轰击
,
凹坑
,
结合力
田林海
,
宗瑞磊
,
朱晓东
,
唐宾
,
何家文
中国有色金属学报
应用低能离子束辅助磁控溅射技术(IBAMS)沉积Cr-N薄膜,用场发射扫描电镜(FESEM)、原子力显微镜(AFM)和X射线衍射表征薄膜的组织结构,讨论了轰击能量对Cr-N薄膜组织、晶粒度以及硬度和断裂韧性的影响.结果表明:随离子束辅助轰击能量的升高,Cr-N薄膜由粗大的柱状晶变为细小的晶粒,当轰击能量达到1 200 V时,薄膜呈现等轴晶结构,薄膜致密度增加.FESEM得到的表面颗粒尺寸和AFM得到的粗糙度随轰击能量升高呈现相同的变化趋势,这些表观大颗粒是由许多小的亚晶块聚集而成.进一步用X射线衍射谱形分析表明:随轰击能量从0 V升高到800 V时,亚晶块的尺寸逐渐减小;到800 V时,晶块尺寸约为9 nm,但当能量升到1 200 V时,晶块尺寸反而增大,这是由离子束辅助轰击导致的两种不同机制而引起的,一种是离子轰击导致的喷丸碎化作用,而另一种为热效应引起的晶粒长大;当轰击能量从0 V增加800 V时,薄膜的硬度和断裂韧性都显著提高,与晶粒度的减小有关;而到1 200 V时,晶粒度较未辅助略大,但却具有很高的硬度以及较高的断裂韧性,说明硬度和断裂韧性的提高还与离子束轰击导致薄膜的致密化增加有关.
关键词:
离子轰击
,
晶粒度
,
硬度
,
断裂韧性
蒋百灵
,
曹政
,
丁小柯
,
鲁媛媛
材料科学与工程学报
采用磁场完全闭合状态和不闭合状态两种磁场组态分别沉积Cr镀层,并利用Langmuir探针诊断其放电等离子体,测量了离子密度、电子密度和电子温度(EED)在两种磁场组态中的分布规律.结果表明:磁场不闭合状态时的等离子体密度较低,而完全闭合状态显著增加了真空腔中部的带电粒子数目.两种不同磁场组态中Cr镀层的沉积速率在靶电流相同的情况下相近.其中不闭合状态的Cr镀层截面为粗大而疏松的柱状结构,表面较粗糙;而完全闭合状态的镀层的柱状生长受到阻碍,表面光滑、平整,致密性好.
关键词:
完全闭合状态
,
不闭合状态
,
Langmuir探针
,
Cr镀层
,
离子轰击
徐锋
,
左敦稳
,
张旭辉
,
户海峰
,
王珉
人工晶体学报
合适的衬底偏压是物理气相沉积制备cBN的必须条件,本文采用基于蒙特卡洛方法的SRIM软件对PVD过程中离子轰击衬底进行了分析,并进行了相关的实验研究.仿真与实验结果显示,随着离子轰击能量的增加,离子轰击深度和范围扩大,有利于cBN的成核与生长,但是过大的轰击能量会导致薄膜表面N与B元素的不匹配以及薄膜立方相的下降.同时,在PVD气氛中适量添加N2可以弥补薄膜表面N元素的损失,有利于提高立方相含量.
关键词:
立方氮化硼薄膜
,
磁控溅射
,
衬底偏压
,
离子轰击
,
立方相
孙丽
,
陈厚文
,
王蓉
金属学报
在能量为3,5和7 keV的氩离子轰击下,对激冷Ni-50%Al(质量分数)合金薄膜进行减薄,用配备有超薄窗口能谱仪的高分辨电镜观察分析了减薄后样品中两种合金相Ni2Al3和NiAl3r结构和成分变化. 结果表明, 在离子轰击下,合金相Ni2Al3和NiAl3的成分均有变化, Ni含量明显高于合金相化学配比. 随着离子能量的降低,轰击后合金相中Ni含量增加. 在3 keV氩离子轰击下两个相的含Ni量均高达87%(原子分数)左右,在离子轰击过程中初始的NiAl3相点阵结构未发生明显变化,而Ni2Al3的初始结构在3和5 keV氩离子轰击减薄后部分转变为体心立方结构.
关键词:
离子轰击
,
null
,
null
,
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