王佳宇
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金爱子
,
白亦真
,
纪红
,
金曾孙
无机材料学报
doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2002.01.030
CVD金刚石厚膜具有极高的硬度,使得对其进行表面抛光极为困难.传统的机械抛光方法既不经济又耗费时间,而一些新的抛光技术又由于实验条件限制而难以推广.针对以上情况,我们寻求到一种新的化学刻蚀方法,即利用稀土化合物浆料对金刚石厚膜生长表面进行刻蚀,破坏表面的晶粒使之成为晶骸,降低表面的耐磨性,以提高表面粗糙的金刚石厚膜的抛光效率.
关键词:
CVD金刚石厚膜
,
刻蚀
,
稀土化合物浆料