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CVD金刚石厚膜的稀土化合物浆料刻蚀

王佳宇 , 白亦真 , 陈宏宇 , 吕宪义 , 金曾孙 , 纪红

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2001.03.006

与现有的金刚石膜抛光工艺相匹配的高效刻蚀技术,是目前研究的热点。自行研制的稀土 化合物浆料对CVD金刚石厚膜进行了刻蚀研究,刻蚀过程在低于金刚石氧化点的温度下和大气 环境中完成。其刻蚀结果,用扫描电子显微镜给出。实验表明,该工艺采用廉价的稀土化合物为 原料,具有简单、安全、高效的特点。

关键词: CVD金刚石厚膜 , 刻蚀 , 稀土化合物浆料

稀土化合物浆料对CVD金刚石厚膜的刻蚀

王佳宇 , 金爱子 , 白亦真 , 纪红 , 金曾孙

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2002.01.030

CVD金刚石厚膜具有极高的硬度,使得对其进行表面抛光极为困难.传统的机械抛光方法既不经济又耗费时间,而一些新的抛光技术又由于实验条件限制而难以推广.针对以上情况,我们寻求到一种新的化学刻蚀方法,即利用稀土化合物浆料对金刚石厚膜生长表面进行刻蚀,破坏表面的晶粒使之成为晶骸,降低表面的耐磨性,以提高表面粗糙的金刚石厚膜的抛光效率.

关键词: CVD金刚石厚膜 , 刻蚀 , 稀土化合物浆料

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