王照锋
电镀与涂饰
通过复合电刷镀在20钢基体表面制备镍铁-立方氮化硼(CBN)复合镀层.研究了施镀电压、镀液温度及镀笔速率对复合镀层中CBN含量的影响,分析了镀层中CBN含量与耐磨性之间的关系.复合电刷镀NiFe-CBN的镀液组成和最佳工艺条件为:NiSO4·6H2O 270 ～ 300 g/L,FeC12·2H2O 23 ～ 27 g/L,H3BO326～30 g/L,Na3C6H5O7·2H2O 20～30 g/L,糖精2～3 g/L,十六烷基三甲基溴化铵0.2～0.3 g/L,pH 3.2 ～ 4.0,电压14V,温度50℃,镀笔速率15 m/min,时间100～120min.在最佳工艺下所得镀层的CBN质量分数为9.8％,显微硬度为770 HV,耐磨性和结合力良好.
关键词:
镍铁合金
,
立方氮化硼
,
复合电刷镀
,
耐磨性
丁文锋
,
徐九华
,
沈敏
,
傅玉灿
,
肖冰
,
苏宏华
稀有金属材料与工程
通过扫描电镜、能谱仪、X射线衍射仪研究了Ag-Cu-Ti钎料中的活性元素Ti在钎料与立方氮化硼(CBN)磨粒高温钎焊结合界面的扩散现象,并运用动力学分析对界面反应层的生长过程及反应激活能进行了探讨.结果表明:钎焊过程中,钎料中的活性元素Ti明显向磨粒侧扩散偏聚并发生化学反应,实现了磨粒与基体材料的牢固结合;钎焊CBN磨粒表面生成的TiB2和TiN化合物形貌接近平衡状态下生长的理想形貌;界面反应层在钎焊温度1153 K～1193 K,保温时间5 min～20 min之间依据抛物线生长法则所得扩散激活能值表明其生长过程主要受新生TiN影响.
关键词:
活性元素
,
钎焊
,
立方氮化硼
,
界面反应层
郭晓斐
,
许斌
,
杨红梅
,
李森
,
范小红
,
田彬
人工晶体学报
采用Li3N和hBN为原料,在静态高温高压条件下合成出大颗粒cBN单晶.利用扫描电镜(SEM)、高分辨透射电镜(HRTEM)对合成块断面、大颗粒cBN单晶形貌及其周围物相进行了表征.结果表明:在大颗粒cBN单晶周围主要存在hBN、cBN及Li3BN2等物相.HRTEM在大颗粒单晶周围发现了纳米尺寸的cBN微颗粒,并发现该微颗粒处在Li3BN2物相包裹中.由此可以推测,高温高压状态下,hBN与Li3N发生共熔反应生成Li3BN2,而Li3BN2作为触媒中间相促使cBN的形成.同时结合SEM结果分析表明,一旦cBN微颗粒形成,在随后的生长过程中,cBN在Li3BN2熔体中以扩散的方式进行台阶生长,从而形成宏观可见的cBN单晶.
关键词:
立方氮化硼
,
微观结构
,
HRTEM
,
高温高压合成
徐锋
,
左敦稳
,
张旭辉
,
户海峰
,
张骋
,
王珉
硅酸盐通报
立方氮化硼( cubic boron nitride,cBN)具有优异的物理力学性能和极高的化学稳定性,可以胜任铁系金属的加工,在高性能切削刀具等领域有着广泛的应用前景.cBN涂层在复杂刀具应用中有着不可替代的作用,由于气相生长高纯度和结合性能的cBN刀具涂层仍存在着较多的技术难题,因此仍然难以得到广泛的应用.本文综述了近20年来气相沉积cBN涂层的研究进展,阐述了物理气相沉积与化学气相沉积cBN涂层的方法与机理,分析了cBN刀具涂层制备与应用的关键问题,结合研究现状指出了cBN刀具涂层研究的发展方向.
关键词:
立方氮化硼
,
刀具涂层
,
化学气相沉积
,
物理气相沉积
,
过渡层
王金斌
,
张灿云
,
钟向丽
,
杨国伟
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2002.05.003
由于氮化硼特别是立方氮化硼(c-BN)的独特性质和广泛的应用前景,一直受到材料研究工作者的广泛关注.本研究利用脉冲激光在室温下沉积出立方氮化硼薄膜,傅立叶变换红外光谱和X射线衍射分析表明在所制备的氮化硼薄膜中,立方相的含量很高;同时,该研究还观察到了氮化硼的另一种高压相-爆炸结构氮化硼(Explosive-BN,E-BN).本研究同时还讨论了氮化硼薄膜生长的原理.
关键词:
脉冲激光沉积
,
室温
,
立方氮化硼
,
爆炸结构氮化硼
桂阳海
,
牛连杰
,
韩勤会
,
张林森
,
崔瑞立
,
冯辉
电镀与涂饰
综述了近年来国内外金刚石和立方氮化硼(CBN)超硬磨料表面处理技术的种类及研究进展,包括化学镀、电镀、盐浴镀覆、真空物理气相沉积、真空化学气相沉积、粉末覆盖烧结、真空微蒸发镀、刚玉涂覆、原子层镀以及化学刻蚀等.分析了各种方法的优缺点,并总结了处理后的技术指标.
关键词:
超硬材料
,
金刚石
,
立方氮化硼
,
表面处理
刘思幸
,
肖冰
,
张子煜
,
段端志
,
徐风雷
,
王波
人工晶体学报
采用一种铜基合金(Cu-Sn-Ti)作为活性钎料,在高真空炉中钎焊连接金刚石、立方氮化硼与45#钢基体,将其牢固钎焊在基体表面.通过扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)和X射线衍射仪进一步研究活性元素Ti在Cu基合金与金刚石及立方氮化硼结合界面的扩散现象.结果表明:活性元素Ti向金刚石、立方氮化硼表面发生偏聚,生成TiC、TiN、TiB和TiB2;活性元素Ti在向金刚石和立方氮化硼磨粒的扩散存在一定的差异性;铜基合金和钢基体的结合界面发生元素扩散生成铁钛金属间化合物.
关键词:
真空钎焊
,
铜锡钛合金
,
金刚石
,
立方氮化硼
,
界面特征
赵玉成
,
王明智
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2008.00253
将立方氮化硼(cBN)微粉和铝(Al)微粉按照体积比7:3的比例进行混配, 在高温(1300～1500℃)、高压(5.5GPa)条件下进行烧结. 利用X射线衍射分析(XRD)、透射电子显微镜(TEM)以及X射线色散能谱(EDS)对烧结体的物相构成、显微结构以及各组分元素的分布进行了分析. 实验结果表明, 1300℃, Al尚未与cBN反应; 当温度升至1400℃时, Al与cBN反应生成AlN和AlB2; 温度进一步升高至1500℃, 反应产物增多, 产物种类不变. TEM和EDS分析表明, 在反应过程中Al扩散进入cBN的表层, B扩散进入富Al的区域, 生成新相AlN和AlB2.
关键词:
立方氮化硼
,
sinter
,
high temperature and high pressure
,
interaction
张晓玲
,
胡奈赛
,
何家文
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.1999.02.013
采用红外分析、金相技术及和透射电子显微(TEM)技术分析了射频PCVD法沉积氮化硼膜的形成过程.结果表明,在沉积过程中,非晶态氮化硼(a-BN)作为领先相首先按平面方式生长,然后立方氮化硼(c-BN)在其上成核,并靠沉积原子表面迁移过程而长大,这种过程交替进行的结果,使膜层由a-BN和c-BN组成.膜层的表面呈层状+胞状形貌,说明薄膜的生长不仅取决于固体表面的扩散,而且也与气相成分的扩散有关.
关键词:
立方氮化硼
,
薄膜形成
,
等离子体化学气相沉积(PCVD)
,
超硬材料
,
形貌
桂阳海
,
牛连杰
,
韩勤会
,
张林森
,
李永义
,
冯辉
电镀与精饰
doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2010.07.004
采用复合化学镀方法,在超硬材料立方氮化硼粉体表面成功地制备了不同SiC含量的(Ni-P)-SiC复合镀层.实验结果表明,立方氮化硼粉体经复合化学镀后,SiC颗粒均匀分布于Ni-P合金中,表面呈银白色,有金属光泽,镀层致密、均匀,部分表面凹凸不平,有利于增加与树脂基体的把持力.当镀液中ρ(SiC)为2 g/L时,复合镀层表面最粗糙,凹凸度增加.
关键词:
超硬材料
,
立方氮化硼
,
复合化学镀
,
(Ni-P)-SiC复合镀层
