张荣发
,
何向明
,
单大勇
,
韩恩厚
航空材料学报
doi:10.3969/j.issn.1005-5053.2006.06.010
研究Magoxid工艺中镁合金等离子体氧化的过程,此过程分为三个阶段:普通阳极氧化、微弧氧化以及弧光氧化.随着氧化的进行,施加的电压不断升高,火花由微弧向弧光过渡.而微弧和弧光开始均主要集中于样品的边缘,然后均匀分布于整个样品表面.与微弧氧化阶段相比,弧光氧化阶段火花的数量明显减少,尺寸增大,并且持续的时间延长.与火花变化过程相对应,氧化膜表面孔数量减少,直径逐渐增大.氧化时间超过10min后,氧化膜表面呈现不明显的多孔结构.
关键词:
镁合金
,
腐蚀与防护
,
等离子体氧化
,
火花放电
何刚
,
方起
,
张立德
功能材料
报道了用低温等离子体直接氧化溅射金属铪膜的方法制备高介电HfO2薄膜.研究了退火温度及气氛对薄膜的结构和界面特性的影响.傅立叶变化红外测试结果表明:界面的主要成分为SiO2,氧气气氛下的高温退火将导致界面SiO2的不可控制的生长.高纯的N2退火导致了界面层的分解,引起Si-O键的振动峰位的轻微移动.
关键词:
等离子体氧化
,
氧化铪
,
高介电薄膜
,
制备
,
界面
