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张湘辉 , 汪灵 , 龙剑平
人工晶体学报
基于直流弧光放电PCVD金刚石薄膜沉积设备的特点,设计开发了基底自动控温系统.将该系统应用于金刚石薄膜的制备中,并采用SEM、Raman光谱等测试方法对所制备的薄膜的形貌、品质进行了表征.结果证明该系统具有较好的稳定性,其应用时所制备的金刚石薄膜的品质明显得到提高,具有广泛的应用前景.
关键词: 直流弧光放电 , 等离子体CVD , 金刚石薄膜 , 基底托架 , 温度自动控制
龙剑平 , 汪灵 , 张湘辉 , 常嗣和
材料工程 doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2006.09.015
低压气相金刚石薄膜硬质合金刀具在直流弧光放电等离子体CVD镀膜设备上制备.基底为YG6(WC-6%Co,质量分数)硬质合金刀具.采用洛氏(HRA)、表面洛氏(HRM)、维氏(HV)硬度试验机对所制备的金刚石薄膜刀具进行压痕测试;采用扫描电镜(SEM)观察压痕形貌并定性评价膜/基附着性能.结果表明:所制备的金刚石薄膜镀膜刀具的优选膜/基附着性能压痕测试方法是表面洛氏压痕法;优选测试条件为采用120°金刚石圆锥压头,测试加载载荷441N.
关键词: 金刚石薄膜 , 硬质合金刀具 , 附着性能 , 压痕测试 , 等离子体CVD
