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反应溅射 TiN 纳米晶薄膜的结构特征和耐蚀性?

曲彬 , 张金林 , 贺春林

材料导报 doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2015.12.007

利用直流反应溅射技术在不锈钢和硅基体上沉积了 TiN 纳米晶薄膜,采用场发射扫描电镜(FESEM)、X 射线衍射(XRD)和电化学阻抗谱(EIS)技术研究了薄膜的表面形貌、相结构和耐蚀性与偏压的关系。结果表明, TiN 薄膜的表面结构明显取决于所施加的偏压,适当提高偏压有利于获得细小、均匀、致密和光滑的膜层。XRD 分析发现,TiN 薄膜为面心立方结构,其择优取向为(111)面。实验显示,对应0 V 和-35 V 偏压的薄膜为欠化学计量比的,而偏压增加至-70 V 和-105 V 时的薄膜为化学计量比的 TiN。EIS 结果表明,较高偏压下的 TiN 薄膜几乎在整个频率范围内均表现为容抗特征,其阻抗模值明显高于低偏压下的膜层,这主要与较高偏压下的薄膜具有相对致密的微结构有关。较低偏压的 TiN 薄膜因结构缺陷较多其耐蚀性低于基体不锈钢。EIS 所揭示的薄膜结构特征与 FESEM 观测结果一致。可见,减少穿膜针孔等结构缺陷有利于改善反应溅射 TiN 纳米晶薄膜耐蚀性。

关键词: TiN , 纳米晶薄膜 , 反应溅射 , 微结构 , 耐蚀性

电沉积铁镍合金纳米晶薄膜微结构与耐蚀性能

卢琳 , 刘天成 , 李晓刚

材料科学与工艺

采用电沉积方法从硫酸盐体系镀液中制备3种纳米级Fe-36Ni、Fe-44Ni、Fe-80Ni合金薄膜,应用原子力显微镜(AFM)、X射线衍射仪(XRD)、中性盐雾试验和电化学测量技术对三种Fe-Ni合金薄膜的微观结构和耐蚀性能进行了研究.结果表明,3种纳米Fe-Ni合金薄膜的耐腐蚀性能与合金的微观结构密切相关,具有单一γ相结构的Fe-80Ni耐蚀性能最好,由α-(Fe,Ni)相和γ-(Fe,Ni)相组成的混合固溶体Fe-44Ni次之,而含有单相铁、α-(Fe,Ni)相和γ-(Fe,Ni)相的混合固溶体Fe-36Ni合金最差,这是由于合金薄膜中各相电化学稳定性存在显著差异所致.

关键词: 铁镍合金 , 电沉积 , 纳米晶薄膜 , 耐蚀性能 , 微结构

TiO2纳米晶薄膜溶胶凝胶法制备及其光学性能

王宁 , 林红 , 杨晓战 , 李建保 , 梁宏

稀有金属材料与工程

通过溶胶凝胶浸渍提拉法成功制备了表面平整的氧化钛纳米晶薄膜.XPS结果确定了该薄膜的元素组成及价态.TG分析结果表明大量无定形Ti(OH)2向锐钛矿型TiO2转变发生在390℃左右.显微共焦Raman光谱确定了不同温度热处理所得薄膜的相结构.SEM形貌图显示TiO2薄膜表面粒子疏松,晶粒多在20nm~30nm之间.另外研究了Fe3+掺杂对TiO2薄膜光学吸收性能的影响.

关键词: TiO2 , 溶胶凝胶 , 纳米晶薄膜 , Fe3+掺杂

新型NPC电池阳极材料:PbTiO3纳米晶薄膜的制备及其光电性能研究

王江 , 王君 , 孙炜岩 , 马莹 , 李占双 , 刘天孚 , 张密林

功能材料

采用溶胶-凝胶法制备四方相PbTiO3薄膜,考察了焙烧温度及焙烧时间对所制备的PbTiO3薄膜的晶体结构及晶型的影响,并借助XRD、TG-DSC、TEM、HRTEM、UV-vis、I-V等手段对其晶型结构、结晶度及光电性能等进行表征.XRD结果表明所制备的PbTiO3薄膜为具有钙钛矿结构的四方晶相,且结晶度良好;TEM和HRTEM显示晶体平均粒径为20nm,晶体生长取向于[110]晶面; UV-vis吸收光谱结果表明,PbTiO3薄膜在整个可见光区域内对光均有吸收;光电化学性能测试结果显示,PbTiO3薄膜的开路电压为566mV,填充因子为0.497,其光电性能优于TiO2薄膜.

关键词: 纳米晶薄膜 , NPC电池 , 二氧化钛 , 钛酸铅

奥氏体不锈钢溅射纳米晶薄膜的点蚀行为研究

刘莉 , 李瑛 , 王福会

腐蚀学报(英文)

利用统计分析和原子力显微镜(AFM)原位观测方法,研究了一种轧制粗晶的奥氏体不锈钢和它的溅射纳米晶薄膜在3.5%NaCl溶液中的点蚀行为.结果表明,溅射纳米晶薄膜的耐点蚀能力显著高于同成分的轧制粗晶材料;纳米晶薄膜的亚稳态点蚀过程被促进而稳态点蚀生长过程被抑制;电化学原子力显微镜(AFM)的原位观察可见,亚稳态点蚀在溅射薄膜表面的粒子团簇间产生,稳态点蚀为浅碟形点蚀坑生长.

关键词: 纳米晶薄膜 , 点蚀 , 统计分析 , 原子力显微镜(AFM)

PbSe纳米晶薄膜制备以及其光电特性研究

周凤玲 , 李效民 , 高相东 , 邱继军

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2009.00778

以Pb(Ac)2、Na2SeSO3分别作为铅源和硒源,采用化学浴法在玻璃衬底上沉积PbSe纳米晶薄膜.采用X射线衍射(XRD),扫描电镜(SEM),原子力显微镜(AFM),透射光谱以及在光脉冲下的电流-时间曲线(i-t)对纳米薄膜材料结构和性能进行了表征.结果表明,薄膜的结晶质量随络合剂浓度升高而提高,薄膜的光学吸收边从体材料的5μm蓝移至1μm左右,经过退火处理薄膜吸收边红移.退火处理引起薄膜电阻显著降低,i-t测试曲线表明经过较低氧压退火处理的纳米晶薄膜具有较快的光电导性能,而在空气气氛中退火的薄膜则出现慢光电导性能.

关键词: PbSe , 红外探测器 , 化学浴 , 纳米晶薄膜

纳米Zn1-xFexSe薄膜的制备和结构研究

张林 , 张连生

功能材料

采用双源热蒸发方法制备了纳米Zn1-xFexSe稀释磁性半导体薄膜,根据X射线衍射谱和Raman散射谱研究了薄膜的晶体结构和声子谱特征.结果表明:Zn1-xFexSe薄膜中纳米晶粒的晶格常数随Fe含量增加而增大;通过Raman散射光谱观察到明显的声子限域效应,与ZnSe体材料相比,Zn1-xFexSe薄膜同光学声子模对应的Raman散射峰表现出宽化和红移;纳米晶粒的晶格膨胀导致Raman散射峰红移随Fe含量增多而相应加大.

关键词: 纳米晶薄膜 , 稀释磁性半导体 , 晶体结构

α-Fe2O3纳米晶薄膜厚度对光电流的影响

吕红辉 , 文子 , 钱新明 , 汤心颐 , 白玉白

应用化学 doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2001.10.003

研究了不同α-Fe2O3纳米晶薄膜厚度及不同光照方向时α-Fe2O3/ITO电极在KCl溶液中的光电化学行为,发现当膜的厚度增加时,光电流响应减弱.当膜的厚度较薄(50 μm)时,正、反两面光照对光电流的响应几乎不会产生影响,而当膜较厚(100 μm)时,反面光照的光电流响应更强.

关键词: α-Fe2O3 , 纳米晶薄膜 , 光电化学

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