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单晶硅片纳米磨粒磨损的AFM模拟

安伟 , 王春 , 赵永武

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2007.02.028

当前的CMP磨损模型中,大多数主要是基于理论分析以及CMP中宏观影响因素所建立,并且都欠缺微观试验的证明.本文提出使用原子力显微镜(AFM)作为CMP中单个纳米磨粒模拟的方法,来验证模拟实验中载荷与扫描速率对微观磨损的影响,并依据此模拟试验的结果探讨了CMP磨损机理.

关键词: AFM , 模拟 , 纳米磨粒

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