张晓丹
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赵颖
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朱锋
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魏长春
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吴春亚
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高艳涛
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孙建
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侯国付
,
耿新华
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熊绍珍
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2004.06.018
本文研究了采用VHF-PECVD技术制备的微晶硅薄膜的纵向均匀性.喇曼测试结果显示:微晶硅薄膜存在着生长方向的结构不均匀,随厚度的增加,材料的晶化率逐渐变大;不同衬底其非晶孵化点是不一样的,对于同一种衬底,绒度大相应的晶化率就大,对应着孵化层的厚度小;AFM测试结果明显的给出:材料的结构随厚度增加发生变化.
关键词:
甚高频等离子体增强化学气相沉积
,
纵向均匀性
,
微晶硅薄膜
