欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

  • 论文(1)
  • 图书()
  • 专利()
  • 新闻()

偏压对MPCVD金刚石薄膜织构生长的影响

戴雯琦 , 居建华 , 许俊芬 , 夏义本

材料科学与工艺 doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2000.02.023

通过偏压微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD) 成功地在Si(100)上生长出具有[100]织构的金刚石薄膜.阐述了实验过程,讨论了偏压对 [100]织构金刚石薄膜成核与生长条件的影响,偏压有助于成核密度的提高和有利于[100 ]织构生长.采用SEM、Raman光谱等对所得样品进行了表征.

关键词: 金刚石薄膜 , MPCVD , 偏压 , 织构生长

出版年份

刊物分类

相关作者

相关热词