邓江辉
,
赵北君
,
朱世富
,
何知宇
,
郭楠
,
李佳伟
材料工程
doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2010.01.016
采用金相显微镜和扫描电镜观察了垂直布里奇曼法生长的新型红外非线性光学晶体砷锗镉(CdGeAs_2)单晶片(101)面蚀坑形貌.选择机械研磨、物理抛光及质量分数为3%溴甲醇在室温下对晶片化学抛光1min左右的工艺,获得了表面平整无划痕的CdGeAs_2晶片.报道了一种新的CGA晶体择优腐蚀剂,其组成为HCl∶HNO_3∶H_2O=1∶1∶1(体积比),室温下腐蚀晶片30s左右后在金相显微镜和扫描电镜下观察到CdGeAs_2晶体(101)晶面的腐蚀坑,蚀坑形貌呈取向一致的等腰三角形,边界清晰,具有立体感,并从理论上分析讨论了(101)面三角形蚀坑的形成原因.
关键词:
非线性红外光学晶体
,
砷锗镉
,
腐蚀剂
,
蚀坑形貌
张国涛
,
那顺桑
,
徐倩
,
宫进华
物理测试
传统的显示不锈钢组织时用王水来腐蚀,但是王水腐蚀方法使组织细节信息丢失比较多.配制了用于Cr13型不锈钢的显微组织显示的几种化学腐蚀剂,介绍了它们的使用方法和使用条件,对比它们的腐蚀效果.结果说明:含有铜盐的腐蚀剂具有组织显示清晰、显示重现性好、操作方法简单、试剂保存时间长和配方简单等优点,为不锈钢光学显微镜分析提供了方便条件.
关键词:
Cr13型不锈钢
,
组织显示
,
腐蚀剂
,
显微分析
谢冬柏
,
李欣庭
,
单国
,
陈宇
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.01.032
目的 通过对金属承痕客体表面使用腐蚀液进行处理,以提高其在常用的可见光源环境中的成像质量.方法 对铝及铅板表面形成的线条及凹陷状痕迹,使用不同光源时光学显微镜下的成像特点进行研究,对高倍率下影响成像效果的色散现象进行分析.使用无水乙醇与50%(质量分数)丙酮的混合溶液对金属表面的痕迹进行前处理,对其成像质量进行检验,并讨论引起变化的原因.结果 金属客体表面线条状痕迹中存在的微小线条会引起照明光的干涉现象,在显微拍照过程中能形成不同颜色的明暗条纹,极大地影响观察拍照质量.使用腐蚀液对金属客体表面痕迹进行腐蚀,可增大纳米尺度塑性变形部位的几何尺寸,改善显微镜的拍摄质量.结论 使用特殊的腐蚀液对金属客体表面痕迹进行适当处理,可消除金属承痕客体在光学成像系统中干涉现象的发生,用此方法对金属表面痕迹进行前处理,可得到一种显微摄影条件下提高微小痕迹成像质量的方法.
关键词:
金属承痕客体
,
腐蚀剂
,
光学显微镜
,
色散现象
,
成像质量
