李惠琴
,
陈晓勇
,
王成
,
穆继亮
,
许卓
,
杨杰
,
丑修建
,
薛晨阳
,
刘俊
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2015.02.012
原子层沉积( ALD)是一种新型的精确表层薄膜制备技术，具有沉积面积大、薄膜均匀、膜厚纳米级可控生长、低温性等特点，适用于纳米多孔和高深宽比基底材料，可应用于三维微纳结构器件的功能薄膜材料制备，广受国内外学术界和工业界的关注。综述了ALD技术发展历史和技术原理，介绍了ALD技术在微纳器件中的应用进展，涉及半导体微纳集成电路、微纳光学器件、微纳米生物医药等高新技术领域，对ALD技术当前存在的问题进行了分析，并展望了未来发展方向。
关键词:
原子层沉积
,
薄膜技术
,
高深宽比结构
,
纳米多孔结构
,
微纳结构器件
陈新亮
,
田淙升
,
赵慧旭
,
杜建
,
张德坤
,
魏长春
,
耿新华
,
赵颖
,
张晓丹
材料导报
主要阐述了近年来薄膜太阳电池用绒面结构氧化锌(ZnO)透明导电氧化物(Transparent conductiveoxides,TCO)薄膜以及光管理设计方面的研究进展.主要包括溅射&湿法刻蚀技术、等离子体刻蚀玻璃衬底技术、等离子体处理修饰ZnO薄膜表面技术、修饰层改善ZnO薄膜表面技术、梯度杂质掺杂技术、复合特征尺寸生长设计以及直接生长绒面结构ZnO薄膜技术和宽光谱ZnO薄膜生长设计等.此外,对薄膜太阳电池中的先进光管理(Light management)结构设计及新材料应用进行了探讨和展望.
关键词:
太阳电池
,
绒面结构
,
ZnO-TCO薄膜
,
光管理
,
薄膜技术
陈学荣
,
胡军志
,
韩文政
材料热处理学报
doi:10.3969/j.issn.1009-6264.2007.04.027
采用离子束溅射和退火工艺,在K9玻璃基体上制备了氧化钒薄膜,并对其微观形貌及组成进行了研究,还应用脉宽10ns、532nm波长的Nd:YAG激光器对薄膜样品进行了激光损伤阈值的测试.扫描电镜(SEM)分析结果表明,所制备的氧化钒薄膜均匀致密,晶粒平均尺寸约50nm.X射线光电子谱(XPS)分析可知,薄膜中钒的价态为+4价和+5价,薄膜由VO2和V2O5组成.在1Hz多次单点照射的条件下,以刚可见损伤作为判断激光损伤阈值的条件,得到此氧化钒薄膜的激光损伤阈值为21.9mJ/cm2.对刚可见损伤光斑和明显损伤光斑进行了微观分析,探讨了激光损伤原因.
关键词:
薄膜技术
,
激光损伤阈值
,
激光损伤光斑
,
氧化钒薄膜
施卫
,
侯磊
功能材料
采用超声喷涂热解淀积方法将SnO2:F透明导电薄膜制备于耐高温的硼硅玻璃管内壁.XRD物相分析及SEM、STM形貌分析表明,SnO2:F薄膜为多晶结构,平均粒径50nm.分析了薄膜中F取代SnO2中O的形成过程和薄膜电导率增强的机理,解释了不同的工艺条件对薄膜的结构、光电特性的影响,确定了制备SnO2:F薄膜加热管的最佳工艺条件.该条件下制备的薄膜的电阻率达4×10-4Ω·cm,可见光透过率高于90%,功率密度平均可达35 W/cm2.
关键词:
薄膜技术
,
SnO2:F薄膜
,
光电特性
,
超声喷涂热解法
李争显
,
刘瑞斌
,
华云峰
,
潘晓龙
,
王少鹏
,
王彦峰
,
黄春良
钛工业进展
钛及钛合金具有比强度高、耐蚀性能好、无磁性等优点，但其所固有的高温易氧化、易发生接触腐蚀、导热系数小等缺点在一定程度上限制了其应用。为此，需对钛合金表面进行处理，而薄膜技术则是一种有效方法。首先概述了薄膜技术在钛材的耐磨处理、抗氧化处理、耐冲蚀处理、电活性功能处理四个方面的研究成果，然后结合作者自身的研究成果及对钛表面处理技术的认识，从钛的应用和薄膜技术的特点出发，提出了今后钛表面薄膜技术在这些方面可能的发展方向。
关键词:
钛合金
,
表面处理
,
薄膜技术
,
发展趋势
