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ZnS薄膜的溅射沉积及其XPS研究

周咏东 , 方家熊 , 李言谨 , 龚海梅 , 汤定元

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2000.06.031

用Ar+束溅射沉积技术在HgCdTe表面实现了ZnS的低温沉积．用 X射线光电子能谱(XPS)对上述ZnS薄膜以及热蒸发ZnS薄膜中的Zn、S元素的化学环境进行了对比实验研究．实验表明：离子束溅射沉积ZnS薄膜具有很好的组份均匀性，未探测到元素Zn、S的沉积．

关键词: ZnS , 离子束溅射沉积 , XPS , HgCdTe , 表面抗反射膜