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离子减薄后NiAl3合金相中调制结构的高分辨电子显微学研究

陈厚文 , 王蓉

金属学报

利用像解卷方法对3 keV氩离子减薄后合金相NiAl3中出现的一维无公度调制结构进行了研究.分析了调制结构的形成机理, 提出该调制基本属于成分调制.

关键词: 调制结构 , NiAl3 , ion etching , HRTEM

Bi-2212超导体中氧原子位移调制的计算机模拟

边为民 , 周廉

材料与冶金学报 doi:10.3969/j.issn.1671-6620.2009.02.012

根据Bi系超导体的结构特点提出了BiO层中O原子位移调制的结构模型.通过计算机模拟计算了Bi-2212相A型调制结构的选区电子衍射和会聚束电子衍射花样.计算结果表明,O原子的位移调制对电子衍射花样中调制衍射斑的影响甚大,不容忽视.而会聚束电子衍射对O原子的位移更敏感,利用这一特点,进一步调整BiO层中O原子的位移,使模拟计算的电子衍射花样和会聚束电子衍射花样与实验结果完全一致.

关键词: Bi系高温超导体 , Bi-2212相 , 调制结构 , 电子衍射 , 会聚束电子衍射

过饱和铜铬合金的时效过程结构演变研究

李强 , 陈敬超 , 孙加林

稀有金属材料与工程

制备了含量为1.56%(质量分数)的铜铬合金粉体并对粉体压坯及时效处理,用高分辨电镜观察了不同时效阶段的结构.时效的前期阶段观察到了一种长周期调制结构,命名为调制结构Ⅰ;时效时间45 min时观察到了另一种DO3型调制结构,命名为调制结构Ⅱ;并对两个调制结构进行了晶体结构分析.结果证明该条件下过饱和铜铬合金时效过程的析出机制并非传统意义上的由FCC结构直接转变为BCC结构,而是以两个调制结构为过渡相逐步转变的.

关键词: 金属材料 , 时效 , Cu-Cr合金 , 调制结构 , 析出贯序

过饱和铜铬合金的时效过程结构演变研究

李强 , 陈敬超 , 孙加林

稀有金属材料与工程

制备了含量为1.56%(质量分数)的铜铬合金粉体并对粉体压坯及时效处理,用高分辨电镜观察了不同时效阶段的结构.时效的前期阶段观察到了一种长周期调制结构,命名为调制结构Ⅰ;时效时间45 min时观察到了另一种DO3型调制结构,命名为调制结构Ⅱ;并对两个调制结构进行了晶体结构分析.结果证明该条件下过饱和铜铬合金时效过程的析出机制并非传统意义上的由FCC结构直接转变为BCC结构,而是以两个调制结构为过渡相逐步转变的.

关键词: 金属材料 , 时效 , Cu-Cr合金 , 调制结构 , 析出贯序

TiN/AlN纳米多层膜的研究

李戈扬

材料工程 doi:10.3969/j.issn.1001-4381.1999.11.002

采用反应溅射法制备了TiN/AlN纳米多层膜,并通过XRD,HREM和显微硬度计对多层膜的调制结构和力学性能进行了研究.结果表明:TiN/AlN纳米多层膜有较好的调制结构.小调制周期时,AlN调制层以FCC结构在TiN调制层上外延生长.调制周期增大,AlN调制层中出现六方晶型.TiN/AlN的显微硬度随调制周期的减小单调上升,并在调制周期=2nm时达到最高值HK3293.硬度的增高极有可能是小调制周期时立方AlN的形成所致.

关键词: 纳米多层薄膜 , 反应溅射 , 调制结构 , 显微硬度

离子减薄后NiAl3合金相中调制结构的高分辨电子显微学研究

陈厚文 , 王蓉

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2008.10.001

利用像解卷方法对3keV氩离子减薄后合金相NiAl3中出现的一维无公度调制结构进行了研究,分析了调制结构的形成机理,提出该调制基本属于成分调制.

关键词: 调制结构 , NiAl3 , 离子减薄 , 高分辨电子显微学(HREM) , 像解卷

Ni/Al纳米多层膜的界面扩散与电阻率

刘明霞 , 张建民 , 徐可为

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2008.03.019

采用FS-MS模型研究了Ni/Al纳米多层膜的薄膜电阻率ρ及镜面反射系数P随周期数n、Ni/Al调制比R和调制波长L的演变规律,从而表征了多层膜界面扩散行为的尺度依赖性.结果表明t随着n减小,ρ基本恒定,多层膜界面扩散行为对调制周期数不敏感;而随着薄膜特征尺度R和L的减小,出现ρ异常增加和P明显减小的变化过程. P对薄膜特征尺度的依赖关系反映了多层膜界面扩散行为的尺寸效应,即多层膜界面非对称的互扩散行为只在低调制比与低调制波长尺度下加剧,此时界面互促效应凸现;在高于临界调制波长和调制比的情况下,互促效应弱化,薄膜界面扩散行为不明显.

关键词: Ni/Al , 纳米多层膜 , 电阻率 , 调制结构 , 界面扩散

自支撑Ti/Al纳米多层膜激光诱发自蔓延行为

安荣 , 田艳红 , 孔令超 , 王春青 , 常帅

金属学报 doi:10.11900/0412.1961.2013.00821

通过磁控溅射法并借助有机高分子牺牲层,制备了具有不同调制结构的自支撑Ti/Al (调制比为1)纳米多层膜.采用脉冲激光诱发了纳米多层膜的自蔓延反应,确定了临界诱发能量密度.利用高速摄影法表征了自蔓延速度,采用SEM和TEM观察了纳米多层膜结构,利用差热分析仪和XRD分析了反应过程及产物.结果表明,纳米多层膜激光诱发临界能量密度(6~17J/cm2)高于烧蚀临界能量密度.调制周期或周期数较小的纳米多层膜激光诱发所需的能量密度较小且自蔓延速度较高.但当调制周期接近或小于层间原子互溶区厚度时,临界能量密度和自蔓延速度的变化则有相反趋势.对于一定厚度的纳米多层膜,具有大调制周期和小周期数的调制结构对应的放热量大.随激光脉冲持续时间的延长,Ti/Al纳米多层膜的激光临界诱发能量密度呈现递减趋势,但最终趋于稳定.激光诱发Ti/Al纳米多层膜自蔓延反应生成单一的TiAl金属间化合物.

关键词: 纳米多层膜 , 自支撑 , 自蔓延 , 调制结构 , 脉冲激光

Co/Pt多层膜的调制结构对磁光性能的影响

李晖云 , 赵辉 , 丁易 , 吴隽 , 张永俐

贵金属 doi:10.3969/j.issn.1004-0676.2000.02.003

研究了Co/Pt多层膜中,Co层厚度,Co、Pt含量比,溅射温度对多层膜磁光性能的影响.研究发现Co层厚度及Co、Pt含量比对Co/Pt多层膜的磁光性能起决定性影响,当tCo<0.4nm,tCo/tPt=1/2时,可获得较好的综合磁光性能;适当提高溅射时基体的温度,可改善多层膜的结晶性并获得较好的调制周期结构,最终改善其磁光性能.

关键词: Co/Pt多层膜 , 调制结构 , 磁光性能

金属Fe/Pd成分调制膜的结构和磁性研究

张林 , 刘宜华 , 王浩

金属学报

用真空双源蒸镀法在玻璃衬底上制得了金属Fe/Pd成分调制膜。用X射线衍射分析了它们的调制特性和晶格结构;用振动样品磁强计进行磁性测量。结果表明:金属Fe/Pd成分调制膜中Pd层为fcc结构;随着Fe层厚度减小,Fe层结构由bcc转变为非晶态。研究了比饱和磁化强度随Fe层厚度的变化规律并探讨了它的机理。

关键词: 成分调制膜 , modulated structure , specific saturation magnetization , Fe/Pd film

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