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贵金属化学气相沉积的研究进展

胡昌义 , 戴姣燕 , 陈松 , 欧阳远良 , 王云

贵金属 doi:10.3969/j.issn.1004-0676.2005.02.014

简要介绍了贵金属薄膜和涂层材料化学气相沉积(CVD)技术的研究进展,包括贵金属的CVD制备方法、沉积贵金属的各种前驱体化合物以及CVD制备的贵金属薄膜和涂层的应用状况等.

关键词: 金属材料 , 贵金属薄膜和涂层 , 化学气相沉积 , 前驱体 , 应用