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钛合金表面加弧辉光离子渗镍铬及其性能研究

刘道新 , 唐宾 , 潘俊德 , 何家文

材料工程 doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2000.10.003

采用加弧辉光离子渗金属新技术处理钛合金Ti5Al2.5Sn表面,研究了渗层的相组成特点,成分分布情况,评价了改性层的摩擦磨损性能,及与钛合金基体间的接触腐蚀相容性等.结果表明加弧辉光离子渗技术可以快速地在钛合金表面获得NiCr镀渗复合层,渗层由Ni3Ti等金属间化合物组成,其硬度、耐磨性能均高于离子注氮层,具有较高的抗含Cl-1水溶液腐蚀性能,在含Cl-1腐蚀环境中与钛合金基体接触相容.

关键词: 等离子表面合金化 , 辉光放电 , 弧光放电 , 钛合金 , 摩擦 , 磨损 , 腐蚀

辉光放电光谱法分析掺杂纳米硅薄膜的研究

张毅 , 陈英颖 , 吴则嘉 , 刘晓晗 , 杨晟远 , 张林春

冶金分析 doi:10.3969/j.issn.1000-7571.2004.z1.074

介绍了利用辉光放电光谱法分析掺杂纳米硅薄膜:通过优化辉光光源激发参数、计算标准样品的溅射率,建立了掺杂纳米硅薄膜的定量表面分析方法.方法应用于实际掺杂纳米硅薄膜样品的分析,并将分析深度剖析结果与表面形貌仪的结果进行了对照.实验结果表明,本分析方法快速、准确,具有实际应用价值.

关键词: 辉光放电 , 光谱法 , 掺杂 , 纳米硅薄膜

辉光放电光谱仪及其在表面分析中的应用

张加民

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2003.06.022

详细介绍了GDS辉光放电光谱仪的发展概况、基本工作原理、设备的基本配置与构成以及性能特点等.用实例介绍了在金属材料的镀层表面逐层分析中的应用.最后展望了GDS在表面处理行业的应用前景.

关键词: 辉光放电 , 光谱仪 , 表面分析 , 逐层分析 , 金属分析

钢铁材料表面成分及其深度分布的射频辉光放电光谱研究

余卫华 , 于录军

冶金分析 doi:10.3969/j.issn.1000-7571.2008.07.003

利用射频辉光放电光谱仪逐层分析的特点,对钢铁表面分析的4个特殊实例进行了研究探讨.分析了镀锌板镀层中元素的组成,在质量分数-深度谱图中计算出镀锌板镀层中脆性相(γ相)的厚度;研究了镀锡板表面氧元素的深度分布,通过对比分析正常及缺陷镀锡板的辉光谱图,确定了试样表面暗黄色斑点产生的原因为镀锡层表面不够致密;建立了一种强度积分法直接对未校正元素进行半定量分析,并应用于硅钢涂层中镁元素的计算,相对标准偏差为2.41%;探讨了用能产生高能量离子的氖气作为工作气体,用于氟等难激发元素的分析测定的可行性研究,测定一种钢铁表面涂附的特氟隆涂层的厚度约为1.5 μm,克服了基于氩气为工作气体的辉光光源在分析元素方面的局限性.

关键词: 辉光放电 , 射频 , 发射光谱 , 表面分析

20CrNiMo钢表面空心阴极辉光放电制备类金刚石膜

陈飞 , 陈家庆 , 周海 , 张跃飞

材料热处理学报

在真空炉内以石墨为电极,利用空心阴极辉光放电在20CrNiMo上成功地沉积了类金刚石(Diamond-like carbon,DLC)薄膜.利用激光拉曼(Baman)光谱分析了所制备DLC薄膜的结构;利用原子力显微镜(AFM)分析了DLC薄膜的表面形貌;利用划痕仪测量了DLC薄膜与基体的结合力并用扫描电子显微镜(SEM)观察了划痕形貌;利用球-盘摩擦磨损实验仪对DLC薄膜的耐磨性能进行了研究.结果表明:在本实验工艺条件下沉积的类金刚石薄膜厚度约为0.6μm,薄膜均匀且致密,表面粗糙度Ra为7~8 nm.类金刚石薄膜与基体结合较紧密,临界载荷达到52 N.DLC薄膜具有优良的减摩性,20CrNiMo表面沉积DLC薄膜后摩擦系数为0.15,较20CrNiMo基体的摩擦系数0.50明显减小,耐磨性能得到提高.

关键词: 类金刚石薄膜 , 辉光放电 , 空心阴极 , 摩擦磨损性能

双辉渗金属放电效应及电极结构设计原理

高原 , 徐晋勇

材料导报

介绍了双层辉光离子渗金属技术的基本原理和技术特点,源极、阴极及辅助阴极设计的基本原则,离子渗金属的两种放电模式及其产生的效应,总结了渗金属电极几何结构设计原理.双层辉光离子渗金属技术主要有3个技术特点:固体材料的阴极溅射、形成有利溅射和扩散的高温条件和增加等离子放电的空心阴极效应.其放电模式为:独立放电模式和空心阴极放电模式.源极和阴极设计原则依据双层辉光离子渗金属的特点和放电模式,为"仿形"原则.

关键词: 离子渗金属 , 源极 , 辉光放电 , 电极结构

辉光放电光谱法快速分析生铸铁的研究

张毅 , 邬君飞 , 陈英颖

冶金分析 doi:10.3969/j.issn.1000-7571.2004.z1.073

通过对生铸铁标样在不同直流辉光放电光源参数下的放电行为研究,优化了辉光光源参数-放电电流、放电电压、预溅射时间和积分时间,建立了辉光放电光谱法同时测定生铸铁中C,Si,Mn,P,S等12个元素的快速分析方法.分析生铸铁试样时,发现了不同灰口铸铁在碳分析结果方面存在偏差,并通过制样条件和光源参数的调整有效地减小偏差.对不同生铸铁样品进行准确度和精密度实验,结果表明:本方法快速、准确,适合生铸铁中多元素的快速分析.

关键词: 辉光放电 , 光谱法 , 生铸铁 , 成分分析

沉积条件对CVD碳纤维生长的影响

王国菊 , 王必本 , 王波 , 郑坤 , 朱满康 , 严辉

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2004.03.020

用CH4、H2或包含NH3的混合气体为反应气体,利用负偏压增强热丝化学气相沉积方法在沉积有过渡层(Ta或Ti)和催化剂层(NiFe)的Si衬底上制备碳纤维,并用扫描电子显微镜研究了它们的生长和结构,结果发现不同的沉积条件对碳纤维的生长和结构有很大的影响.在无辉光放电的条件下,衬底温度较低时碳纳米管或纤维生长困难;提高衬底温度,能够弯曲生长;在辉光放电的条件下,则呈现定向生长的特点.

关键词: 碳纤维 , 辉光放电 , 负偏压 , CVD

TiA1双层辉光离子渗Cr的工艺研究

郑传林 , 谢锡善 , 董建新 , 徐重 , 贺志勇

宇航材料工艺 doi:10.3969/j.issn.1007-2330.2002.02.013

利用双层辉光离子渗金属技术(DGPSAT)对 TiAl金属间化合物进行渗Cr处理.研究了主要工艺参数对渗层表面合金含量CA和渗层厚度δ这两个目标函数的影响.结果表明,表面合金含量CA和渗层厚度δ随源极电压Vs、有效功率密度比κ的增加而增加;随阴极电压Vc的增加而减少.气压存在一个峰值,太高或太低都不利.工艺参数的最佳值:源极电压Vs为1 200 V~1 300 V,阴极电压为200 V~300 V,有效功率密度比κ为4~5,气压为25 Pa~30 Pa.

关键词: TiAl金属间化合物 , 辉光放电 , 离子渗Cr , 工艺参数

Ti6Al4V合金表面等电位空心阴极辉光放电W-Mo共渗层耐冲刷腐蚀性能

赵云 , 张玉林 , 陈飞

材料热处理学报

利用针状等电位空心阴极放电技术,在低于钛合金Ti6Al4V相变温度下,对其表面进行W-Mo共渗.利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、显微硬度计、球-盘摩擦磨损试验仪等分析了改性层的表面及截面形貌、相组成、显微硬度;及在室温干摩擦条件下的耐磨性能;利用冲刷腐蚀试验机研究了W-Mo合金渗层在单相流和双相流冲刷腐蚀条件下,在NaCl腐蚀介质中的耐蚀性能.结果表明:Ti6Al4V基体经过W-Mo共渗处理后,在其表面形成了厚度约为25.0μm的合金改性层.合金层由AlMoTi2和TixW1-x相组成.改性层的显微硬度高达850 HV0.1,较基体(450 HV0.1)显著提高,改性层的平均摩擦系数也从基体的0.30降到0.14.W-Mo合金渗层良好的表面力学性能有效的保护了基体材料不受外力的冲刷,在单相流冲蚀下,W-Mo合金渗层的腐蚀速度只是基体Ti6Al4V的1/19;在双相流冲蚀条件下,只是基体Ti6Al4V的1/37.

关键词: Ti6Al4V合金 , 辉光放电 , 共渗层 , 冲刷腐蚀

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