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  • 论文(23)

电子束蒸发制备CuAlO2透明导电膜及光学性质

刘高斌 , 王新强 , 冯庆 , 何阿玲 , 马勇 , 赵兴强 , 杨晓红

功能材料

利用烧结的CuAlO2靶材运用电子束蒸发法沉积了p型CuAlO2薄膜样品.在空气中1000℃退火之后,薄膜样品出现了(006)定向结晶,且铜铝原子比满足化学计量.CuAlO2薄膜呈现了很好的透明性,500nm厚的薄膜样品在可见光范围透射率超过了80%.利用光谱分析,CuAlO2薄膜的光学禁带约为3....

关键词: 透明导电膜 , p型 , CuAlO2 , 电子束蒸发

基底温度对ZnO/Cu/ZnO透明导电膜性能的影响

李爱丽 , 闫金良 , 石亮 , 刘建军

人工晶体学报

采用射频磁控溅射ZnO陶瓷靶、直流磁控溅射Cu靶的方法在不同基底温度下制备了ZnO/Cu/ZnO多层膜.用X射线衍射仪、原子力显微镜、紫外可见分光光度计和四探针测试仪对样品的性能进行了表征.结果表明,随着基底温度的升高,ZnO层c轴择优取向明显,结晶程度变好,Cu层的结晶性先变好后逐渐变差;多层膜表...

关键词: 透明导电膜 , 多层膜 , 光学性质 , 电学性质

退火温度对透明导电Ga2O3/ITO周期多层膜性能的影响

赵银女

材料科学与工程学报 doi:10.14136/j.cnki.issn.1673-2812.2015.04.018

用射频磁控溅射Ga2O3陶瓷靶材和直流磁控溅射ITO靶材在石英玻璃衬底制备Ga2 O3 /ITO周期多层膜.样品在300~800℃真空退火1小时,研究退火温度对薄膜光学和电学性能的影响.400℃退火的Ga2O3/ITO周期多层膜面电阻和电阻率低至68.76Ω/□和3.47×10-3Ω·cm,载流子浓...

关键词: 磁控溅射 , 多层膜 , 透明导电膜 , 退火 , 光学性质 , 电学性质

聚酯/金属复合透明导电膜制备中化学镀铜、镍工艺的改进

章峰勇

电镀与涂饰

介绍了银盐法制备聚酯/金属复合透明导电膜的工艺条件,对化学镀铜液发浑、低温结晶析出,镀镍工艺不稳定、镀层发红等原因进行了分析,提出了解决措施:将镀铜液中配位剂柠檬酸钠的用量提高到25~30 g/L,硼酸用量控制在10~ 12 g/L,在化学镀铜和化学镀镍之间增加过渡镍工艺.新工艺有效解决了银质网格膜...

关键词: 透明导电膜 , 聚酯/金属网格膜 , , , 化学镀 , 银盐

磁控溅射法制备非晶IGZO透明导电薄膜

梁朝旭 , 李帅帅 , 王雪霞 , 李延辉 , 宋淑梅 , 杨田林

人工晶体学报

采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备了IGZO薄膜,研究了IGZO薄膜的性质和制备工艺条件.重点研究了射频功率对IGZO薄膜的结构特性、光电特性的影响以及厚度对薄膜电阻率的影响.制备的IGZO薄膜最高品质因子为1.94×10-3Ω-1,对应的薄膜电阻率和透过率分别为2.6×10-3Ω·cm和87.2%...

关键词: 磁控溅射 , IGZO , 非晶薄膜 , 透明导电膜

今日玻璃

马金淼 , 曲远方 , 耿月香 , 章莉

硅酸盐通报 doi:10.3969/j.issn.1001-1625.2001.05.014

介绍了当今玻璃发展的情况,简述了透明导电膜玻璃、光学玻璃材料以及电子束照射使玻璃改性的概况.

关键词: 玻璃 , 透明导电膜 , 光学 , 电子束照射

GZO/Ag/GZO多层薄膜制备、结构与光电特性的研究

杨田林 , 张之圣 , 宋淑梅 , 辛艳青 , 姜丽莉 , 李延辉 , 韩圣浩

功能材料

采用射频磁控溅射和离子束溅射联合设备在玻璃衬底上制备出了具有良好附着性、低电阻率和高透过率的GZO/Ag/GZO(ZnO掺杂Ga_2O_3简称GZO)多层薄膜.X射线衍射谱表明GZO/Ag/GZO多层薄膜是多晶膜,GZO层具有ZnO的六角纤锌矿结构,最佳取向为(002)方向;Ag层是立方结构,具有(...

关键词: GZO/Ag/GZO , 多层膜 , 溅射方法 , 透明导电膜

金属基复合透明导电多层膜的研究进展

王振国 , 蔡珣

机械工程材料 doi:10.3969/j.issn.1000-3738.2005.02.001

简要分析了金属基复合透明导电多层膜的发展及应用现状,对其原理、结构设计、稳定性等方面的研究概况及其存在的问题进行了讨论.阐述了金属基复合透明导电多层膜的发展趋势.

关键词: 金属基 , 透明导电膜 , 多层膜 , 光电性能

掺铝氧化锌透明导电膜的研究进展

刘超英 , 左岩 , 许杰

材料导报

掺铝氧化锌(AZO)透明导电薄膜作为一种性能优异的多功能材料引起了研究人员的普遍关注,被认为是当前极具发展潜力的传统铟锡氧化物(ITO)薄膜的替代者.综述了AZO薄膜的不同制备工艺,并叙述了衬底温度、Al掺杂量、氧分压、退火条件、同质缓冲层5个因素对薄膜的结构以及光电性能的影响.针对AZO透明导电薄...

关键词: 透明导电膜 , 薄膜结构 , 光电特性 , 禁带宽度 , 玻璃基片

柔性衬底PET上低温沉积ZnxCd1-xO透明导电薄膜

季振国 , 陈敏梅 , 张品 , 周强

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2008.02.032

利用直流反应磁控溅射在柔性衬底(聚乙烯对苯二酸脂,PET)上低温沉积了对可见光透明的低电阻率的ZnxCd1-xO薄膜,并研究了Zn含量x对ZnxCd1-xO薄膜的结晶性能、电学性能及光学性能的影响.XRD分析结果表明,当x<0.65时,薄膜为CdO结构,但x>0.65时,薄膜为高度取向的...

关键词: 直流磁控溅射 , 柔性衬底 , ZnCdO薄膜 , 透明导电膜

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