陈弟红
材料保护
为了改善铝基体化学镀Ni-W—P镀速慢、镀层耐腐蚀性和耐磨性差等问题，研究了添加剂（稳定剂、表面活性剂和配住剂等）和热处理温度对1060铝合金上Ni-W-P化学镀层的的沉积速度、腐蚀速度、腐蚀电流密度和硬度等的影响。结果表明：铝基体化学镀Ni-W-P的理想稳定刺是KI（1mg／L），表面活性剂是十二...
关键词:
化学镀Ni-W-P
,
1060铝合金
,
稳定剂
,
表面活性剂
,
配位剂
,
热处理
,
耐蚀性
,
耐磨性
王瑞祥
电镀与涂饰
开发出钢铁基体上中性无氰镀铜(挂镀及滚镀)工艺,其配方中的配位剂是需要经过多道工序合成的具有(NCCOOH)x结构的化合物,还含有醋酸铜和磷酸二氢钠.介绍了镀液的配制,生产过程中pH的调整,电流密度的控制及镀前处理.通过比较该工艺与氰化镀铜工艺的深镀能力,可知前者深镀能力明显优于后者.烘烤试验及弯曲...
关键词:
钢铁基体
,
镀铜
,
无氰
,
配位剂
,
深镀能力
,
烘烤试验
,
弯曲试验
,
结合力
袁诗璞
电镀与涂饰
分析了锌酸盐镀锌液对金属杂质的敏感性.介绍了几种消除阳离子杂质的方法,如配位掩蔽法和沉淀去除法.讨论了乙二胺四乙酸、酒石酸钾钠、三乙醇胺等掩蔽剂的利弊,以及硫化钠沉淀法的可行性.指出了使用高纯度阳极的必要性.
关键词:
锌酸盐镀锌
,
金属杂质
,
去除
,
掩蔽
,
沉淀
,
配位剂
,
阳极
朱焱
,
孔小雁
,
黄锦涛
电镀与涂饰
采用正交试验考察了镀液中配位剂柠檬酸钠和乳酸钠含量及pH对Q235碳钢上中温化学镀层沉积速率的影响,研究了稳定剂苯并三氮唑、硫代硫酸钠及其复配对镀液稳定性和沉积速率的影响.得到较理想的工艺配方及操作条件为:NiS046H2O30 g/L,NaH2PO2·H2O 30 g/L,乳酸50 g/L,柠檬酸...
关键词:
碳钢
,
镍磷合金
,
中温化学镀
,
配位剂
,
稳定剂
,
正交试验
,
沉积速率
魏世洋
,
刘定富
,
崔东
,
武晓阳
,
彭庆康
材料保护
为了获得镀速适中、镀层耐蚀性高的化学镀Ni-P合金镀液，以镀速、镀层耐浓硝酸变色时间为评价指标，在含25g/LNiSO4·6H2O，30g／L NaH2PO2，15g/L NaAc·3H2O，2mg／L十二烷基硫酸钠，2mg／L二巯基苯骈噻唑，pH=4．6-6．2的基础镀液中，对镀液中柠檬酸、乳酸、...
关键词:
Ni-P合金化学镀
,
正交试验
,
优选
,
配位剂
,
复配
,
镀速
,
耐蚀性
唐娟
,
谭澄宇
,
李建梅
,
蔡超
,
李劲风
电镀与涂饰
采用循环伏安法在铜电极上进行了NdFeB稀土永磁薄膜电沉积的初步探索.镀液组成为:FeCl240g/L,H3BO336g/L,抗坏血酸1.2 g/L,十二烷基硫酸钠0.1 g/L,甘氨酸、氯化铵各30 g/L(作为配位剂),NdCl38～16 g/L.探讨了配位剂对该体系镀液循环伏安特性的影响,并研...
关键词:
钕铁硼
,
永磁铁
,
薄膜
,
电沉积
,
循环伏安法
,
水溶液
,
配位剂
毕晨
,
刘定富
,
曾庆雨
,
荣恒
电镀与涂饰
分别以柠檬酸、酒石酸钾钠、乙二胺四乙酸(EDTA)、三乙醇胺、5,5-二甲基乙内酰脲(DMH)、焦磷酸钾为辅助配位剂无氰电镀铜,镀液组成和工艺条件为:五水合硫酸铜50 g/L,丁二酰亚胺120 g/L,硝酸钾30 g/L,氢氧化钾40 g/L,pH 9,温度30℃,电流密度1 A/dm2,时间30 ...
关键词:
无氰镀铜
,
丁二酰亚胺
,
配位剂
,
光泽度
,
槽电压
,
电流效率
,
电流密度
汪健健
,
李思燃
,
苏勋家
,
毕松
,
侯根良
,
吕湘毅
电镀与涂饰
分别采用柠檬酸钠、苹果酸、乳酸和丁二酸作配位剂,在30CrMnSi合金钢上化学镀镍-磷合金.考察了配位剂种类及用量对沉积速率及所得镀层耐蚀性的影响.发现以苹果酸或丁二酸作配位剂时沉积速率较快,使用柠檬酸钠或苹果酸时所得镀层的耐蚀性较好.在此基础上选取苹果酸和柠檬酸钠进行复配,研究了二者含量对沉积速率...
关键词:
合金钢
,
镍-磷合金
,
化学镀
,
配位剂
,
沉积速率
,
微观结构
,
耐蚀性
李冰
,
李宁
,
谢金平
,
范小玲
,
宗高亮
电镀与涂饰
针对亚硫酸盐体系镀金液的稳定性和镀层均匀性问题,制定了测试评估方法及工艺改进方案.提出了高温稳定性测试、Ni2+耐受能力测试和还原剂稳定性测试3种方法来评价镀金液稳定性.镀层均匀性则通过测厚仪多点测厚,计算总体相对标准偏差(RSD)进行表征.通过单因素试验对配位剂组成和工艺条件进行了优化,得到置换镀...
关键词:
化学镀镍
,
置换镀金
,
亚硫酸盐
,
配位剂
,
厚度均匀性
,
镀液稳定性
,
测定
张伟
,
吴承伟
材料保护
镀铬层应用广泛,常用的Sargent镀液含毒性六价铬离子,三价铬替代六价铬电镀是近年来研究的热点之一.从离子液、添加剂(配位剂、共镀金属及金属氧化物)及引入碳纳米管等方面简述了三价铬电镀近期的研究进展,并分析了存在的问题及未来发展方向.
关键词:
三价铬镀铬
,
离子液
,
配位剂
,
碳纳米管
,
发展方向
