成维
,
李宗安
,
陈德宏
,
庞思明
,
王志强
,
王祥生
稀有金属
doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2011.05.027
对锂热还原-真空蒸馏联合法制备金属镧所涉及热力学和动力学因素进行了简要的分析,证明该工艺过程可行；在此基础上,在氩气气氛下考察了还原温度、还原剂用量和保温时间对金属收率的影响,确定了适宜的工艺条件为:还原反应温度为950℃,锂还原剂过量10％,反应保温时间1h,在此工艺条件下金属镧收率可以达到95％以上.为降低氯化物吸水及气体杂质对金属镧的污染,将锂热还原和真空蒸馏除杂整合在同一设备中一次完成,制备得到了国内报道的目前高纯度的金属镧,绝对纯度为99.974％(相对于38个分析元素),相对纯度为La/REM ≥99.995％,其中稀土金属杂质总量为42.7 μg·g-1,非稀土金属杂质总量为100.1 μg·g-1,气体杂质C,S,O,N分别为20,20,56和20 μg·g-1.
关键词:
金属镧
,
高纯
,
还原
,
真空蒸馏
储爱民
,
姜银举
中国材料进展
doi:10.3969/j.issn.1674-3962.2005.08.005
采用热重法和化学分析法对镧热还原氧化钐的反应产物镧渣进行分析和反推导计算,得到了实际反应物料的Sm2O3:La的比值,并与理论反应物料的Sm2O3:La的比值比较.结果表明,镧热还原氧化钐过程中,还原剂金属镧发生了扩散迁移,在反应产物镧渣内部产生了亏空,在表而产生富集,且金属镧的富集程度受还原温度的影响.
关键词:
镧热还原
,
金属镧
,
表而富集
,
Sm2O3:La
金炳勋
,
谢宏伟
,
顾惠敏
,
翟玉春
稀有金属材料与工程
采用三电极体系对La3+离子在0.01 mol/L LaCl3-0.1 mol/L LiCl-EMIMBF4离子液体电化学还原制备金属镧的电极过程进行了研究.循环伏安法结合恒电位电解法研究结果表明:La3+离子的电化学还原是不可逆过程,还原步骤为一次完成La3++3e→La.计时电流法结合恒电位电解法研究表明:La3+离子的还原过程受到扩散控制,传递系数和扩散系数分别为0.0492和(1.07～1.19)×10-6 cm2/s.
关键词:
电化学
,
离子液体
,
电沉积
,
金属镧
龚晓钟
,
汤皎宁
,
李均钦
材料研究学报
doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2006.02.010
使用尿素-NaBr-KBr-甲酰胺镀液用电沉积方法在硅基体上沉积出含有金属镧的沉积膜,研究了沉积液中甲酰胺的含量和电流密度等工艺参数对沉积膜的形貌和金属La含量的影响.结果表明,在适当的沉积条件下,沉积膜由金属镧及少量氧化镧组成,呈白灰色、均匀、致密、光滑,La的含量(质量分数)达到91.35%;电流密度过低或过高都使沉积膜的表面形态呈现灰黑色、疏松和粗糙.沉积膜中金属镧的含量先随着电流密度的增大而提高,后又降低.镀液中适当含量的甲酰胺使其呈现较好的流动状态,有利于制备高质量的沉积膜.用聚乙烯醇保护膜可以使沉积膜免于氧化.
关键词:
金属材料
,
沉积膜
,
金属镧
,
非水体系
,
电沉积
龚晓钟
,
汤皎宁
,
李均钦
材料研究学报
\使用尿素--NaBr--KBr--甲酰胺镀液用电沉积方法在硅基体上沉积出含有金属镧的沉积膜,
研究了沉积液中甲酰胺的含量和电流密度等工艺参数对沉积膜的形貌和金属La含量的影响.
结果表明, 在适当的沉积条件下, 沉积膜由金属镧及少量氧化镧组成,呈白灰色、均匀、致密、光滑,
La的含量(质量分数)达到91.35\%; 电流密度过低或过高都使沉积膜的表面形态呈现灰黑色、
疏松和粗糙. 沉积膜中金属镧的含量先随着电流密度的增大而提高, 后又降低.
镀液中适当含量的甲酰胺使其呈现较好的流动状态, 有利于制备高质量的沉积膜.
用聚乙烯醇保护膜可以使沉积膜免于氧化
关键词:
金属材料
,
null
,
null
,
null
