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凹槽工件表面常规磁控与高功率脉冲磁控溅射沉积钒薄膜的研究

李春伟 , 田修波 , 刘天伟 , 秦建伟 , 杨晶晶 , 巩春志 , 杨士勤

稀有金属材料与工程

高功率脉冲磁控溅射是一种制备高质量薄膜的新兴方法.在相同的平均功率下分别采用HPPMS技术和传统DCMS技术在凹槽工件表面制备了钒薄膜.对比研究了两种方法下的等离子体组成、薄膜的晶体结构、表面形貌及膜层厚度的异同.结果表明:HPPMS产生的等离子体包括Ar(1+),v(0)和相当数量的v(1+);而...

关键词: 高功率脉冲磁控溅射 , 凹槽工件 , 钒薄膜 , 均匀性 , 膜厚