李振东
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詹华
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王亦奇
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汪瑞军
,
王伟平
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.01.011
目的 通过等离子刻蚀处理使基体表面更洁净,从而提高薄膜与基体的结合力.方法 采用阳极层离子源,通过不同的离子源功率和处理时间对M50轴承钢样品进行处理,并在处理过的样品表面制备钨掺杂类金刚石薄膜.利用原子力显微镜对等离子刻蚀处理前后的样品表面形貌进行研究,利用Raman光谱分析薄膜的微观结构,利用划痕仪对薄膜与基体的结合力进行研究.结果 不同的离子源功率和刻蚀时间,得到了不同的基体微观表面粗糙度;钨掺杂类金钢石薄膜的D峰和G峰分别在1350 cm?1附近和1580 cm?1附近,为典型的类金刚石结构,ID/IG值在1.5左右;未经等离子刻蚀前处理样品的膜/基结合力是23 N;而优化等离子刻蚀前处理参数样品的膜/基结合力高达69 N,最佳的离子源功率和刻蚀时间为2 kW、60 min.结论 等离子刻蚀前处理能够有效提高薄膜与基体的结合力.
关键词:
等离子刻蚀
,
阳极层离子源
,
M50轴承钢
,
钨掺杂类金刚石薄膜
,
离子源功率
