张小锋
,
于磊
,
杨震晓
,
邓春明
材料工程
doi:10.11868/j.issn.1001-4381.2014.05.005
采用等离子球化技术对不规则钨粉进行球化,以还原后的球形钨粉为原料于CuCrZr合金基体上在氮气保护下,用大气等离子喷涂制备聚变堆用厚钨梯度涂层.利用X射线衍射(XRD)对钨粉和涂层进行物相分析,采用扫描电镜(SEM)对钨粉和涂层微观形貌进行观察,使用O/N测量仪、激光热导仪和拉伸试验机分别对涂层氧含量、热导率和结合强度进行测量,用X射线光电子能谱(XPS)对钨涂层中钨元素的价态进行分析.结果表明:在氮气保护下,采用大气等离子喷涂成功制备了以Cu-Mo/Mo-W为过渡的约2mm厚钨涂层,其结合强度为15.2MPa.相对真空热处理而言,H2还原热处理能显著降低等离子球化钨粉和钨涂层的氧含量,H2处理后涂层中氧含量从0.93％(质量分数,下同)降至0.17％.在钨涂层制备过程中由于存在对流氧化和扩散氧化,导致涂层存在微量的氧化物,其中氧化物主要以WO2.72和WO3存在.
关键词:
钨粉
,
等离子球化
,
大气等离子喷涂
,
钨涂层
刘建军
,
李铁虎
,
郝志彪
,
张宏葳
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2003.03.010
采用等离子喷涂工艺在炭/炭复合材料表面喷涂成型了0.8～1mm厚的钨涂层和含有0.03～0.08mm钽中间涂层的钨涂层.SEM和金相显微镜分析表明:涂层与基体之间结合良好,涂层组织致密,孔隙较小.涂层剪切强度5～8MPa,压缩强度大于100MPa,相关分析表明试样破坏首先发生在基体材料内部.
关键词:
炭/炭复合材料
,
钨涂层
,
涂层结构
,
涂层强度
吴尉
,
杨启法
,
郑剑平
物理测试
doi:10.3969/j.issn.1001-0777.2003.05.002
报导了具有〈111〉晶向(轴向)的管状钼单晶基体化学气相沉积(CVD)钨单晶涂层的电解蚀刻工艺及形成的{110}晶面形貌.实验发现,通过电解蚀刻,表面的{110}晶面可以完全被蚀刻出来.蚀刻出来的{110}晶面呈台阶结构,并同〈111〉晶轴相平行.蚀刻出来的{110}晶面在圆管的表面分成均等六个区.每个区内{110}晶面的台阶面的宽度呈现周期性的变化,开始台阶面较宽,逐渐变窄,然后通过一过渡区后,进入下一周期,{110}晶面的台阶面的宽度又逐渐变宽.
关键词:
钨涂层
,
气相沉积
,
电解蚀刻
,
{110}晶面
华云峰
,
李争显
,
杜继红
,
姬寿长
,
王彦峰
,
王宝云
稀有金属材料与工程
钨涂层是最有希望的聚变堆偏滤器高热负荷面对等离子体材料.系统总结了钨涂层材料、连接及其制备研究进展,分析了钨涂层材料及其与热沉连接存在的问题,提出了偏滤器高热负荷面对等离子体钨涂层铁素体钢热沉材料(W/ODS)连续制备的发展方向,分析了钨涂层制备方法的优缺点,指出了电子束物理气相沉积(EBPVD)方法连续制备大面积的、显微结构可控的W/ODS的研发方向.
关键词:
聚变堆偏滤器
,
高热负荷
,
钨涂层
,
连接
,
制备
张昭林
,
李忠盛
,
何庆兵
,
易同斌
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2005.04.015
利用X射线荧光能谱仪、扫描电镜及其能谱仪和显微硬度计等方法对CVD法制备的钨涂层进行了成分、显微组织分析,并测试了其显微硬度以及抗烧蚀性能.研究结果表明,采用化学气相沉积法,能在炮钢基体上制备致密均匀的高纯钨涂层,其纯度大于99.9%,并且钨涂层具有典型的柱状晶体结构,同时具有良好的抗烧蚀性能.
关键词:
化学气相沉积
,
钨涂层
,
抗烧蚀
种法力
中国材料进展
对铜基体上真空等离子体喷涂1 mm的钨涂层进行了分析研究,主要包括微观结构、热力学属性以及成分分析.结果显示,钨涂层气孔率仅为7.6%,室温热导率达到79.7 W/(m·K),W/Cu结构界面结合强度高达45 MPa,这些结果对钨作为聚变装置面对等离子体材料的应用是令人鼓舞的.涂层材料的出气性能也是面对等离子材料的一个重要指标,钨涂层出气气体种类主要是氢气和水蒸气.而且在300℃经过4 h高温烘烤后出气率大幅度降低,更长时间的烘烤则对出气率影响不是太明显.因此可以看出钨涂层作为聚变装置面对等离子体材料的应用是可行的.
关键词:
钨涂层
,
面对等离子体材料
,
真空等离子体喷涂
杜继红
,
李争显
,
高广睿
稀有金属材料与工程
采用CVD(Chemical Vapor Deposition)法沉积的钨涂层有[100]/[111]/[110]择优取向.择优取向主要受气体组分、流动速度、温度等因素的影响.研究了钼基体上CVD钨涂层的表面形貌和织构、涂层界面的元素分布、涂层的抗热震性能及高温扩散性能.结果显示:钨涂层与基体钼有2μm左右的互扩散层且钼在钨中的扩散速度更高;涂层在通H2条件下,进行室温→1400℃→室温20次循环后涂层不脱落、界面没有明显变化,涂层结合力好;涂层界面上的杂质元素氧等影响涂层的结合性能.
关键词:
CVD
,
钨涂层
,
性能
刘其宗
,
张迎春
,
刘艳红
,
李绪亮
,
江凡
,
葛昌纯
材料导报
金属钨及含钨涂层具有优良的性能,如高熔点、高硬度、良好的化学稳定性和较低的热膨胀系数,在多个领域被广泛应用,金属钨及含钨涂层有很多制备方法,其中电沉积法具有重要的地位.综述了熔盐电沉积钨涂层及溶液电沉积钨合金涂层的研究进展,并展望了熔盐电沉积钨涂层及溶液电沉积钨合金涂层的发展趋势.
关键词:
电沉积
,
钨涂层
,
钨合金
种法力
,
陈俊凌
,
郑学斌
稀有金属
利用等离子体喷涂技术制备了钨涂层面对等离子体材料,并对涂层基本性能进行了表征,主要包括气孔率、相对密度、结合强度、热导率、硬度分布,进而研究主动水冷钨涂层在热负荷服役条件下的损伤演变行为.研究发现,直接水冷钨涂层内部层与层之间的开裂、分层是涂层失效的原因,损伤演变过程为柱状晶体再结晶并长大、层间微裂纹出现、裂纹扩展和气孔出现、最后材料分层、失效.间接水冷钨材料的热负荷性能受到很大限制,且疲劳性能降低,失效形式是涂层开裂或脱落,甚至铜基体整体熔化.
关键词:
钨涂层
,
等离子体喷涂技术
,
核聚变
