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化学溶液沉积制备钼酸锶多晶薄膜中工艺参数影响的研究

刘洋 , 余萍 , 肖定全 , 田云飞 , 刘旭 , 李园利

功能材料

采用化学溶液沉积技术,在单晶硅衬底上制备了钼酸锶多晶薄膜;利用XRD和SEM分析了薄膜的晶相和形貌;系统研究了化学溶液沉积制备钼酸锶多晶薄膜中的工艺参数,包括化学溶液的组成(醇、酸的含量)、溶液浓度、热处理工艺以及采用不同的锶盐等,对钼酸锶薄膜生长的影响.研究结果表明,采用化学溶液沉积技术制备的钼酸锶多晶薄膜均具有单一的四方相结构;除溶液中的醇含量之外,所讨论的工艺参数对薄膜的相结构、形貌、显露晶面等均会带来一定的影响;优化工艺参数、控制工艺规范对于获得结构致密、晶粒发育良好的钼酸锶薄膜是非常重要的.

关键词: 化学溶液沉积技术 , 钼酸锶 , 薄膜 , 工艺参数 , 晶相

SrMoO4粉体的化学溶液沉积制备及其发光性能研究

刘洋 , 余萍 , 肖定全 , 田云飞 , 刘旭 , 李园利

功能材料

采用化学溶液沉积技术,用廉价的无机盐作为初始原料、常见的有机试剂为溶剂,制备了晶相单一且结晶良好的钼酸锶粉体;借助XRD、SEM和荧光分光光度计,对钼酸锶粉体的晶相、形貌、粒径分布和室温光致发光性能进行了表征.结果表明,所制备的钼酸锶粉体具有单一的四方相;粉体晶粒发育饱满、晶界清晰,晶粒呈现不规则的球状,尺寸在纳米-微米量级;在室温下钼酸锶粉体呈现白钨矿型钨钼酸盐的本征发光特征,在强度最大的激发波长为(296±4) nm时,强度最大的发射波长在470nm左右.

关键词: 钼酸锶 , 粉体 , 化学溶液沉积技术 , 发光性能

白钨矿型钼酸锶基材料的研究进展

刘洋 , 余萍 , 肖定全 , 田云飞 , 李园利 , 刘旭

功能材料

具有白钨矿结构的钼酸锶基材料,在发光、光探测、光调制等多个领域中有广泛应用.结合作者及所在课题组10多年的相关研究结果和国际研究状况,总结了白钨矿型钼酸锶基材料的研究进展;分析了钼酸锶基固溶体材料的研究现状;归纳了钼酸锶基材料的研究新动向;展望了白钨矿型钼酸锶基材料的发展趋势.

关键词: 白钨矿型 , 钼酸锶 , 钼酸锶基固溶体 , 发光

SrMoO4薄膜的化学溶液制备技术和发光性质研究

刘洋 , 余萍 , 肖定全 , 郭吾卿 , 田云飞 , 胡国兵

稀有金属材料与工程

利用化学溶液技术制备了具有单一白钨矿结构的SrMoO4多晶薄膜.用X射线衍射仪(XRD)分析了薄膜的晶相结构,用红外光谱(IR)对薄膜的均一性进行了表征,用原子力显微镜(AFM)对薄膜的表面形貌进行了观察.采用荧光光谱仪测试了所制SrMoO4薄膜在不同温度下的光致发光特性.研究结果表明,在276 nm的紫外光激发下,钼酸锶薄膜室温条件下显示出良好的光致发光特性,呈现宽带(~300 nm)的发光特征.另外,光致发光光谱的峰值呈现出明显的温度漂移特性,从511 nm(11 K)变化到484 nm(293 K).此外,本文还讨论了SrMoO4薄膜在闪烁材料和紫外成像薄膜材料方面的可能应用.

关键词: 钼酸锶 , 化学溶液工艺技术 , 薄膜

铽-铕共掺杂的SrMoO4荧光体的制备与发光性质

宣亚文 , 武文 , 尹江龙 , 刘磊

人工晶体学报

本文以Na2MoO4、Eu2O3 、Tb4O7和SrCl2为主要原料,通过共沉淀法制备了Sro.95 MoO4∶xEu3+∶(0.05-x)Tb3+荧光粉.通过X-射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、荧光光谱分析(PL)对样品进行了表征.XRD分析结果表明产物为纯白钨矿型纯四方相SrMoO4,5%的总掺杂量没有引起基质结构的变化.样品在800℃时,发光性能最好,在223 nm紫外光的激发下,Tb3+在486 nm、543 nm、583 nm、617 nm处有一组发射峰,分别对应于Tb3+的5 D4→+7F6、5D4→7F4、5D4→7F4、5D4→7F3的跃迁.Eu3+、Tb3+共掺杂时,发射光谱中Eu3+主发射峰位于611 nm附近,归属于5D0-7F2能级跃迁发射,而位于583 nm附近的弱发射峰归属于5D0-7 F1跃迁.

关键词: 钼酸锶 , 共沉淀 , 荧光光谱

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