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化学气相沉积制备铂族金属涂层及难熔金属

魏燕 , 胡昌义 , 王云 , 欧阳远良 , 陈力 , 蔡宏中

贵金属 doi:10.3969/j.issn.1004-0676.2008.02.013

综述了化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,简称CVD)技术制备高温抗氧化涂层-铂族金属(Pt、Ir)涂层及难熔金属(W、Mo、Ta、Nb、Re)的方法.并对部分有报道的沉积参数以及沉积参数对沉积层结构及性质的影响进行了介绍.

关键词: 金属材料 , 铂族金属薄膜 , 难熔金属 , 制备 , 化学气相沉积