郭崇武
,
李健强
电镀与精饰
doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2009.06.009
在电镀生产中发现,用氨水调节镀镍溶液的pH,镀件的光亮度下降.用霍尔槽试验测定了铵离子对镀镍溶液性能的不良影响,结果表明:向镀液中加1 g/L氯化铵,试片的光亮度就受到影响,加至5 g/L,试片的光亮度明显下降.生产实践和试验表明,不能用氨水调节镀镍溶液的pH.
关键词:
镀镍溶液
,
光亮度
,
铵离子
,
不良影响
徐新宇
,
张宝砚
,
顾卫敏
,
王鲁霞
高分子材料科学与工程
合成了三种含有不同离子的液晶离聚物:含磺酸离子的液晶离聚物(LCI-S),含铵离子的液晶离聚物(LCI-N)和含有羧酸离子的液晶离聚物(LCI-C),将三种液晶离聚物分别与聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)和聚丙烯(PP)熔融共混.将合成的共混物通过三维红外图象系统和拉伸试验方法进行了微观形态和力学性能的分析.比较不同离子对共混物相容性的影响.结果表明,由于磺酸离子的极性>铵离子>羧酸离子,因此LCI-S对共混物的增容作用>LCI-N>LCI-C.
关键词:
磺酸离子
,
铵离子
,
羧酸离子
,
液晶离聚物
,
增容
周宇
,
徐玉福
,
胡献国
应用化学
doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2008.01.002
以剥层重堆法制备了NH+4/MoS2插层复合物,该复合物可以作为长期储存的单层MoS2,同时也可作为先驱体以便插入其它客体分子制成新的插层复合物.通过XRD、热重分析和元素分析等测试技术对该插层复合物进行了表征.结果表明,MoS2经NH+4插层后,其层间距由0.615nm增加到0.954nm,由元素分析和热重分析得出插层复合物的组成分别为(NH+4)3.1 MoS2 和(NH+4 )2.9 MoS2 . 插层复合物在空气中放置30 d后,其XRD和热重分析的结果表明该插层复合物的储存稳定性良好. 此外,插层复合物的插层程度受氯化铵溶液浓度、反应温度、反应时间等反应条件的影响,质量分数为1.0%的氯化铵溶液, 反应温度30 ℃和反应时间12 h,所得到的NH+4 /MoS2插层复合物层间距最大.
关键词:
MoS2
,
铵离子
,
插层复合物