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WN/W难熔栅自对准增强型n沟道HFET

刘伟吉 , 曾庆明 , 李献杰 , 敖金平 , 赵永林 , 郭建魁 , 徐晓春

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2000.03.015

发展了WN/W难熔栅自对准工艺.WN/W栅在850oC下退火,保持了较好的形貌.在此工艺基础上研制出了适用于互补逻辑电路的增强型n沟道异质结场效应晶体管.在1×50μm的HFET中,实现了最大跨导约为56mS/mm,阈值电压为3.5V.与p型HFET的-3V的阈值基本对称.反向击穿电压为4~5V.

关键词: WN/W , 难熔栅 , CHFET , HIGFET

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