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CuBi3S5和CuBi3Se5化合物的制备及其光电性质研究

苗凤秀 , 万松明 , 张庆礼 , 吕宪顺 , 顾桂新 , 殷绍唐

量子电子学报 doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2011.05.008

开展了CuBi3S5和CuBi3Se5两种化合物的合成研究,并首次报道了这两种化合物的基本光电性质.以水合肼(N2H4·H2O)为还原剂,以CuCl、BiCl3和S(或Se)为原料,通过溶剂热与固相反应相结合的方法成功制备了CuBi3S5和CuBi3Se5两种化合物的多晶.采用四点探针法获得了这两种化合物的电阻随温度变化的关系,结果表明: CuBi3Se5呈金属性质,而CuBi3S5呈半导体性质.根据Arrhenius关系式计算出CuBi3S5室温下的热激活能为17.1 meV.在室温下对CuBi3S5多晶块体进行了霍尔效应实验,结果表明:其载流子浓度为3.75×1017 cm-3,霍尔迁移率为14 cm2V-1s-1,CuBi3S5为n型半导体.漫反射光谱的实验结果表明CuBi3S5的禁带宽度约为0.66 eV.

关键词: 材料 , 光电性质 , 溶剂热法 , 四点探针法 , 霍尔效应 , CuBi3S5 , CuBi3Se5

Cu3N薄膜的制备及其霍尔效应研究

王明旭 , 岳光辉 , 范晓彦 , 闫德 , 闫鹏勋 , 杨强

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2006.05.041

采用反应射频磁控溅射的方法在纯氮气气氛下、氮气流量为12sccm、衬底温度为100℃的条件下,在玻璃基底上成功制备了氮化铜(Cu3N)薄膜.XRD显示薄膜择优[100]晶向生长.用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)观察了样品的表面形貌,发现样品表面平整、结构紧密.用四探针法检测了薄膜的霍尔特性,发现随温度的降低薄膜的霍尔系数、霍尔电阻率均增加.霍尔迁移率在高温范围也呈降低的趋势,但是变化的范围比较小,在低温范围又有所增加.随温度的降低薄膜的载流子浓度降低.我们还通过变温的霍尔系数估算了氮化铜薄膜的禁带宽度约为1.35eV.

关键词: 氮化铜薄膜 , XRD , SEM , AFM , 霍尔效应

基于脉冲强磁场的高温超导薄膜YBa2 Cu3 O6.45霍尔效应研究

杨凯 , 辜承林

功能材料

对高温超导材料常态特性的研究与理解,将会对超导电性机理本身的研究提供关键参考信息.在常态特性研究中,以常态电荷传输特性尤其是霍尔效应的测量最为引人注目.然而,T<Tc时试样常态特征被材料本身的超导电性掩盖了,为获得材料在Tc温度以下的常态特性,我们在高达50T的脉冲强磁场中进行霍尔效应测量,可有效抑制超导电性.本文主要介绍了50T左右脉冲强磁场的实验技术,特别是脉冲磁体、实验探钟及测量线路的设计.随后,对高温超导薄膜YBa2Cu3O6.45在强磁场中的霍尔效应测量进行了详细阐述.

关键词: 高温超导体 , 脉冲强磁场 , 常态 , 霍尔效应

Sc2O3对水热法生长ZnO晶体的影响

左艳彬 , 周海涛 , 王金亮 , 何小玲 , 任孟德 , 张昌龙

人工晶体学报

在分别添加0.1wt%,0.2wt%和0.3%wt% Sc2O3的水热体系中得到了ZnO单晶体.研究了杂质,特别是Sc对ZnO水热生长机制的影响.Sc及其在碱性溶液中形成阴离子配位中间体基团(例如Sc(OH)4)可以吸附到ZnO的(0001)和(0001)面,导致这两个极性面发生非极性生长,形成规则六棱柱的形貌.在室温下测得的电阻率和载流子浓度显示:即使所得晶体的钪含量仅有8 ~ 13 ppm,Sc掺杂ZnO仍是高导电性的,电阻率低于5.6×10-2 Ω·cm,载流子浓度在0.9~1.6×1018electrons/cm3.表征了切割自+c区和-c区的晶片的Zn面和O面的室温光致发光用于评价光学性能.

关键词: 钪掺杂ZnO , 水热法 , 生长机理 , 霍尔效应 , 光致发光

氧化铱薄膜的制备及其导电机理研究

公衍生 , 周炜 , 梁玉军 , 谭劲

稀有金属材料与工程

采用脉冲激光沉积技术在Si(100)衬底上制备了高导电的IrO2薄膜,重点研究了退火前后其电学性能和微观结构的变化规律.采用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、光电子能谱(XPS)和四探针法对退火前后IrO2薄膜的结构和电性能进行了表征,并利用霍尔效应研究了IrO2薄膜的导电机理.结果表明:IrO2薄膜在空气中退火后,导电性能得到提高,其中在750℃退火的电阻率达到最小值37μΩ·cm.在25~500℃范围内,IrO2薄膜的高温电阻率随着温度的升高呈线性关系逐渐增大,呈现出类似金属的导电特征.在250~400℃沉积的IrO2薄膜载流子的类型为p型;沉积温度较高(500℃)或在更高温度退火处理后,IrO2薄膜载流子的类型为n型,其导电机理以电子导电为主.

关键词: 氧化铱薄膜 , 电性能 , 导电机理 , 霍尔效应

GaAs霍尔开关集成电路的研制

胡少坚 , 夏冠群 , 冯明 , 詹琰 , 陈新宇 , 蒋幼泉 , 李拂晓

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2003.01.010

成功地设计并制造出 GaAs MESFET霍尔开关集成电路.该电路采用了方形霍尔元件,绝对 灵敏度为 704mV/T;信号处理电路由差分放大电路和触发电路组成,触发电路结构类似于 SCFL 的 D触发器.结果表明,开关性能良好,工作点合理,达到设计要求.实验结果还表明,霍尔元件 和放大电路可构成灵敏度很高的霍尔线性集成电路.

关键词: 霍尔效应 , 磁传感器 , 开关 , GaAs , 集成电路

Cr掺杂CuAlO2陶瓷电学性能的研究

王影 , 朱满康 , 马丙闯 , 侯育冬 , 程蕾 , 赵军

人工晶体学报

采用固相合成法制备CuAl1-xCrxO2陶瓷.通过XRD、XPS、电学阻抗谱和Hall效应等测试方法对陶瓷的物相结构、元素价态、电学性能等进行了研究.结果表明:所制备的样品的主要相组成是CuAlO2和Cu2O,同时,也有少量Cu2+存在.样品的电导率随Cr掺量的增加显示先增加(x=0~0.02)后减小(x=0.02 ~0.05)的趋势,其影响因素包括Cu离子价态和载流子迁移率.

关键词: CuAlO2 , 阻抗谱 , XPS , 霍尔效应

La1.85-2xSr0.15+2xCu1-xTixO4体系的霍尔效应和导电机制研究

王彩霞

低温物理学报

我们采用固相合成法成功地制备出单相双掺杂系列样品La1.85-2xSr0.15+2xCu1-xTixO4,并用X光衍射、电阻率、霍尔效应等实验手段对样品的结构,霍尔效应和输运性质进行了系统地研究.本文分析和讨论了高价态Ti4的掺杂对输运性质地影响.霍尔测量结果表明,对于所有的样品1/RH随温度的呈线性变化,随着Ti掺杂量x的增加,载流子浓度是不断减小的.高价态Ti4+离子被引入到CuO2面后,杂质原子附近的局域电子数密度增大.杂质原子的电子对临近O原子上的空穴的影响将会使空穴失去巡游性而被局域化,被局域化的空穴使该体系引入无规势,这正好形成了可变程跃迁环境,可变程跳跃导电输运机制主导着高温正常态输运性质.

关键词: 高温超导电性 , 霍尔效应 , 可变程跳跃

GaAs霍尔元件不等位电势的调制消除

冯明 , 夏冠群 , 胡少坚

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2004.04.012

测试了 MESFET工艺条件下制作的霍尔片的基本性能.对设计出的 GaAs集成霍尔元件进 行了不等位电势的测试,采用霍尔元件并联和自旋电流的方法对 GaAs方形霍尔元件的不等位电 势进行了静态和动态调制消除.实验结果表明 GaAs霍尔元件的不等位电势引起的偏差可以控制 在可以忽略的范围内.

关键词: 霍尔效应 , 磁传感器 , 不等位电势

霍尔实验内容中的进一步讨论

刘军民 , 张俊华

物理测试 doi:10.3969/j.issn.1001-0777.2005.03.021

分析了在霍尔实验中的一种结果修正方法,从而使实验更加准确,为准确测量各类材料的霍尔特性提供了有力的依据.

关键词: 讨论 , 实验 , 霍尔效应

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