梁朝旭
,
李帅帅
,
王雪霞
,
李延辉
,
宋淑梅
,
杨田林
人工晶体学报
采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备了IGZO薄膜,研究了IGZO薄膜的性质和制备工艺条件.重点研究了射频功率对IGZO薄膜的结构特性、光电特性的影响以及厚度对薄膜电阻率的影响.制备的IGZO薄膜最高品质因子为1.94×10-3Ω-1,对应的薄膜电阻率和透过率分别为2.6×10-3Ω·cm和87.2％.
关键词:
磁控溅射
,
IGZO
,
非晶薄膜
,
透明导电膜
刘吉延
,
斯永敏
材料科学与工程学报
doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2005.02.032
分析材料磁化过程中引起磁致伸缩的机理,考虑应力对磁化过程的影响,通过将应力作用等效为磁场,并假设非晶超磁致伸缩薄膜的低场磁化为可逆过程,根据能量最低原理,建立了磁致伸缩薄膜形变与应力之间的关系,给出了表达式.
关键词:
超磁致伸缩
,
非晶薄膜
,
应力
,
等效磁场
刘天伟
,
王小英
,
江帆
,
朱生发
,
唐凯
,
魏强
稀有金属材料与工程
利用非平衡多靶溅射沉积法在不同脉冲偏压、沉积速率下制备了Ti-Nb-Ni薄膜,用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)和电化学极化试验分析了薄膜结构和抗腐蚀性能.结果表明,在0V偏压下,当Ti:Nb:Ni沉积速率比为3:1.5:1.5时,为晶化薄膜:而当Ti沉积速率的控制电流在5~7 A范围内,Nb、Ni沉积速率不变时,为非晶薄膜.对于沉积速率比为5:1.5:1.5的薄膜,当偏压从0 V增加到-2000 V时,薄膜组织的演化过程为非晶-弥散小晶粒-致密小晶粒-大颗粒晶粒.电化学极化试验表明,利用非晶化和晶化复合工艺获得的Ti-Nb-Ni薄膜具有更好的耐腐蚀性能.
关键词:
U
,
Ti-Nb-Ni
,
非晶薄膜
,
结构
,
电化学极化
徐炜新
,
程新利
,
金惠娟
,
许裕生
金属功能材料
doi:10.3969/j.issn.1005-8192.2002.04.006
用X-射线衍射、透射电镜、X射线光电子能谱、穆斯堡尔谱研究了直流磁控溅射法制备的Fe-Zr-B薄膜.用振动样品磁强计测量了薄膜的磁性能.X-射线衍射和透射电镜结果表明,制备态的薄膜是非晶的;X射线光电子能谱结果表明样品表面氧化较明显,深层部分Fe,Zr,B结合占主导地位;穆斯堡尔谱结果表明薄膜中Fe原子周围Zr,B原子的存在使Fe原子核内场值有所下降并导致超精细场分布P(H)出现双峰结构,薄膜中存在两种不同的局域微结构.
关键词:
Fe-Zr-B合金
,
非晶薄膜
,
直流磁控溅射
