罗子江
,
周勋
,
王继红
,
郭祥
,
丁召
功能材料
doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2014.11.022
通过对于 GaAs 表面形貌在特定 As BEP (1．33μPa)、不同温度(570,560,550,540和530℃)下相变过程研究,发现随着温度的降低 GaAs 预粗糙化过程发生了不同程度的迟滞,在温度降至530℃附近时,延迟现象尤其明显,并且当温度远低于530℃时(As BEP 1．33μPa)GaAs 表面将不会发生预粗糙转变.采用二维艾辛模型建立方程结合实验数据对这一现象进行理论解释,理论计算出 GaAs 预粗糙化相变的临界转变温度为529℃,与实验中获得的数据吻合.采用理论上获得的临界转变温度,利用临界减慢理论对实验现象进行了合理的理论解释,认为在特定条件下GaAs 表面系统存在预粗糙化临界转变温度,当衬底温度接近这一温度时,临界减慢现象将会发生；当温度低于临界转变温度时,无论延长多少时间表面形貌相变过程将不会发生.
关键词:
临界减慢
,
GaAs薄膜
,
预粗糙化
,
临界温度
