罗蕴玲
,
孙维连
,
杨钰瑛
材料热处理学报
doi:10.3969/j.issn.1009-6264.2005.05.011
应用中频非平衡磁控反应溅射技术沉积氮化锆薄膜,通过对Zr-N薄膜颜色测量,绘制了氮分压为横坐标的L*,a*,b*值的影响曲线和Zr-N薄膜随氮分压变化的反射率曲线.发现随真空炉内氮分压的增大,Zr-N薄膜的相结构发生变化,薄膜颜色由银白色→浅黄色→金黄色→深红色的颜色变化规律.比较Zr-N薄膜,TiN薄膜,黄金和金合金颜色,氮分压为50%时,与纯金的色差最小.结果表明,镀膜过程中控制氩气和氮气流量的比值(Ar/N2)可以调节Zr-N膜的颜色.氮分压有比较宽的可调节范围获得金黄色.
关键词:
氮化锆薄膜
,
颜色调控
,
磁控溅射
,
中频电源
