高濂
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宫本大树
无机材料学报
本工作用化学共沉淀法制备了平均晶粒尺寸约20nm的20mol％Al2O3－ZrO2复合粒体，不含有Y2O3作为四方氧化铝的稳定剂．粉体的煅烧温度为750℃，XRD结果表明，粉体中含100％立方氧化锆相，未发现有Al2O3结晶相存在．该粉体用高温等静压方法，在1000℃和200MPa的条件下烧结1h，得到了平均晶粒尺寸为50nm（TEM表征）的致密陶瓷，样品密度为理论密度的98％左右．对样品抛光表面的XRD定量分析结果表明，其抛光表面的相组成为：55％t－ZrO2－39％m-ZrO2－6％α-Al2O3。
关键词:
高温等静压烧结
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null
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高濂
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宫本大树
无机材料学报
doi:10.3321/j.issn:1000-324X.1999.03.031
本工作用化学共沉淀法制备了平均晶粒尺寸约20nm的20mol% Al2O3-ZrO2复合粉体,不含有Y2O3作为四方氧化锆的稳定剂. 粉体的煅烧温度为750C,XRD结果表明, 粉体中含100%立方氧化锆相,未发现有Al2O3结晶相存在. 该粉体用高温等静压方法, 在1000C和200MPa的条件下烧结1h,得到了平均晶粒尺寸为50 nm(TEM表征)的致密陶瓷,样品密度为理论密度的98%左右. 对样品抛光表面的XRD定量分析结果表明,其抛光表面的相组成为:55% t-ZrO2-39% m-ZrO2-6% α-Al2O3.
关键词:
高温等静压烧结
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氧化铝-氧化锆
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纳米陶瓷
