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张丽 , 齐海涛 , 徐永宽 , 王利杰 , 史月增 , 刘金鑫
功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2017.06.033
采用高温化学气相沉积法(CVD)在高纯高密石墨基片的表面沉积了碳化钽(TaC)涂层.通过研究气化温度、气体流量及沉积温度对TaC涂层表面质量的影响,确定了高温CVD法制备TaC涂层的工艺参数,最终获得高致密度的TaC涂层.
关键词: 高温CVD , TaC涂层 , 工艺条件
