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三氯氢硅除硼工艺研究进展

卢海波 , 朱晓云

材料导报

重点介绍了目前去除SiHCl3中硼杂质的先进方法,主要有萃取法、络合物法、吸附法、部分水解法和精馏法,并展望了后续SiHC13的除硼工艺,指出应将不同的提纯工艺优化结合,建立严格科学的痕量杂质全过程技术管理控制体系,进一步优化杂质监测分析技术,才能高效、经济地去除SiHC13中的杂质.

关键词: 高纯SiHCl3 , 硼杂质 , 提纯 , 氯硅烷

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