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Si-Al-Zr-O系非晶晶化过程研究

谭小平 , 梁叔全 , 张勇 , 唐艳 , 钟杰

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2007.01233

借助DSC、XRD、SEM和TEM等技术探讨了Si-Al-Zr-O(SAZ)系非晶的原位受控晶化过程. 结果表明, SAZ系非晶在900℃左右存在分相, 形成富Si区和富Zr、Al区. 在920~950℃间, 开始成核析出初晶相四方氧化锆, 并从富Al区形成Al-Si尖晶石相. 当温度升高至1000℃时, 莫来石晶相开始生成. 温度进一步升高, Al-Si尖晶石相消失, 四方氧化锆、莫来石成为主晶相, 同时生成了方石英. 其中, 莫来石是通过过渡相Al-Si 尖晶石与非晶二氧化硅反应得到.

关键词: SAZ系非晶 , phase development , microstructure change

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