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Gd掺杂对PZT薄膜介电性能及极化行为的影响

孙秋 , 魏兆冬 , 王福平 , 姜兆华

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2008.00872

采用sol-gel法在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备出高度(100)择优取向的Gd掺杂PZT薄膜(简写为PGZT); 介电测试结果表明, 1mol%Gd掺杂的PZT薄膜介电常数最大, 2mol%Gd掺杂PZT薄膜与未掺杂薄膜的介电常数相差不大, Gd掺入量>2mol%时, 薄膜的介电常数下降; 薄膜的不可逆极化值呈现与介电常数相同的变化趋势, 而可逆极化值变化较小. 在弱电场下(低于矫顽场Ec), 用瑞利定律分析薄膜介电常数随电场强度的变化规律, 1mol%Gd掺杂的薄膜瑞利系数α最大, 说明薄膜中缺陷的浓度最低. 1mol%Gd掺杂的薄膜介电和铁电性能的改善与Gd3+在PZT晶格中的占位情况有关.

关键词: PZT薄膜 , rare-earth doping , dielectric properties , polarization

掺Ho3+钛酸锶钡薄膜的结构及发光性能研究

潘瑞琨 , 王军 , 董秀梅 , 章天金 , 胡兰 , 江娟

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2008.00902

采用溶胶-凝胶法制备了1mol%、3mol%、5mol%、8mol% Ho3+掺杂的Ba0.65Sr0.35 TiO3薄膜, 研究了薄膜的表面AFM、XRD谱、光学透射谱和光致发光谱. 结果表明: Ho3+浓度从1mol%增加到8mol%时, BST薄膜的晶格常数先增大后减小; 位于615、650和750nm处的发光, 分别对应5F35F75F55F85S25F45F 的跃迁, 发光谱和5S2, 5F4的寿命谱分析表明, 在Ho3+浓度为3mol%时三个发光带强度均最大. 并分析了Ho3+与Ba2+/Sr2+/Ti4+的离子位置替代机制及交叉弛豫机制.

关键词: BST薄膜 , rare earth-doping , photoluminescence

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