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PLD法制备高取向透明KTa_0.65Nb_0.35O₃/SiO₂(100)薄膜性能研究

王晓东 , 彭晓峰 , 张端明

无机材料学报

用PLD技术结合后期退火,在透明石英单晶(100)上制备了高取向的纯钙钛矿相KTN薄膜.对薄膜的光学、电学性能分析表明,薄膜铁电居里温度为15℃,矫顽场7.32kV/cm,剩余极化强度9.25μC/cm²,折射率在波长1.2μm处为1.776,厚度968nm,沉积速率约为0.0...

关键词: PLD技术 , KTN film , single crystal quartz