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用于X射线光刻掩模的纳米金刚石膜成核研究

李东辉 , 刘志凌 , 叶甜春 , 陈大鹏 , 吕反修

无机材料学报

介绍了金刚石膜在下一代X射线光刻掩模中应用的必要性;通过调节衬底温度,改变生长时间、控制甲烷浓度等工艺措施,实验研究了不同参数对成核密度及成核质量的影响,获得了高密度形核的样品;对形核后的预生长期进行了工艺优化,有效地控制了核岛的优势生长,总结出了一套优化的形核方案,即甲烷浓度4％,衬底温度700℃...

关键词: 成核 , diamond film , MPCVD , X-ray lithography .mask