赵蕾
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付永辉
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刘登益
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朱晓东
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何家文
无机材料学报
采用离子束辅助磁控溅射技术(IBMSD)制备了高硬度、低电阻率的类石墨碳膜(GLC), 用TEM和XRD考察其组成相, 用XPS、FTIR和电阻率间接确定其碳键结构, 并测定了不同气体和离子能
量辅助轰击下制备的几组薄膜的沉积速率、成分、硬度和粗糙度等. 结果表明: 采用IBMSD制备的GLC是一种以sp2键为主的非晶硬质碳膜. CH4辅助轰击较Ar有利于提高沉积速率.
辅助轰击能量的增大使薄膜表面粗糙度先减小后增大, 硬度的变化一定程度上与粗糙度相关.
关键词:
离子束辅助沉积(IBAD)
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magnetron sputtering
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amorphous carbon coating
,
structure
