王传彬
,
涂溶
,
後藤孝
,
沈强
,
张联盟
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2008.00553
采用脉冲激光沉积(PLD)技术, 在MgO(100)基片上制备了b轴取向的BaTi2O5薄膜, 研究了基片温度(Tsub)、氧分压(PO2)等沉积工艺对薄膜结构的影响. 结果表明: BaTi2O5薄膜的物相及取向性都随基片温度和氧分压的改变而变化, 薄膜呈现(710)或(020)取向生长, 最佳的PLD沉积条件为T sub=700℃和P O2=12.5Pa. 在该条件下, BaTi2O5薄膜表现出明显的b轴取向, 薄膜表面平整光滑, 结晶良好, 晶粒呈棒状交叉分布, 结合紧密.
关键词:
BaTi2O5薄膜
,
b-axis orientation
,
substrate temperature
,
oxygen partial pressure
