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检索条件：关键词= bias
付伟佳 , 刘志文 , 谷建峰 , 刘明 , 张庆瑜
无机材料学报 doi:10.3724/SP.J1077.2009.00602
利用反应射频磁控溅射技术，通过对基体施加负偏压溅射ZnO薄膜，探讨了固定偏压下ZnO薄膜的表面形貌随沉积时间的演化以及不同偏压对ZnO薄膜表面形貌的影响. 研究结果表明，在-100V的偏压下，随着沉积时间的增加，ZnO薄膜的表面岛尺寸不断减小，密度逐渐变大. ZnO在基片表面成核过程中的本征缺陷成核...
关键词: ZnO薄膜 , reactive radio-frequency magnetron sputtering , bias , morphological analysis
许仕龙 , 朱满康 , 黄安平 , 王波 , 严辉
无机材料学报
采用磁控溅射法,在衬底温度为620℃时,通过引入合适的衬底负偏压(100～200V),获得了结晶良好的Ta2O5薄膜,衬底负偏压增强了正离子对衬底表面的轰击作用,加速了其在衬底表面的松弛扩散效应,从而降低了Ta2O5
关键词: Ta2O5 , dielectric films , crystallization temperature , bias
