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巴比妥与4-乙烯基吡啶分子印迹聚合物的设计及性能评价

苏婷婷 , 刘俊渤 , 唐珊珊 , 靳瑞发

高分子材料科学与工程

采用量子化学密度泛函理论(DFT)的M062X/6-31G(d,p)方法,模拟巴比妥(BAR)印迹分子与4-乙烯基吡啶(4-Vpy)功能单体的相互作用,确定BAR与4-Vpy的最佳印迹比例为1∶3.然后,在60℃乙腈中采用1∶3印迹比例合成巴比妥分子印迹聚合物(BAR-MIPs),并对BAR-MIPs微球形貌、印迹识别性能及选择性能等进行表征.结果表明,BAR-MIPs为微球形状,粒径在120~390nm之间;Scatchard分析表明,在研究的浓度范围内MIPs对模板BAR的结合位点是等价的,其离解平衡常数(Kd)与最大表现结合量(Qmax)分别为29.1 mg/L和13.1 mg/g;BAR-MIPs对BAR的吸附量明显高于其对1,3-二甲基巴比妥酸(DMBA)、2-硫代巴比妥酸(TMB)及戊巴比妥钠(PBS)的吸附量,表现出较强的特异性吸附能力.

关键词: 巴比妥 , 4-乙烯吡啶 , 分子印迹聚合物 , 模拟 , 吸附量

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