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水杨酸体系抛光液中钌的化学机械抛光研究

王婕 , 储向峰 , 董永平 , 白林山 , 叶明富 , 孙文起

稀有金属材料与工程

研究了抛光液中H2O2和水杨酸浓度对钌的抛光速率的影响.采用电化学方法和X射线光电子能谱分析了H2O2和水杨酸对金属钌腐蚀效果的影响;采用原子力显微镜观察钌表面的微观形貌.结果表明:水杨酸浓度的增加有利于金属钌表面钝化膜的形成,抛光速率值随之增加;随着H2O2浓度的不断增加,抛光速率不断增加,当H2O2质量分数大于3%时,抛光速率值随浓度的增加而降低.抛光后的金属钉表面平均粗糙度Ra为7.2 nm.

关键词: , 化学机械抛光 , 水杨酸

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