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Si基多孔SiO₂薄膜的驻极体性能

1. 通过控制制备工艺条件和充电参数，利用相应条件下样品的等温表面电位衰减，开路热刺激放电电流谱等，考察了利用溶胶－凝胶（ｓｏｌ－ｇｅｌ）方法制备的Ｓｉ基多孔ＳｉＯ_２薄膜的驻极体性能，分析了各种工艺参数与薄膜驻极体性质之间的联系，同时利用Ｇａｕｓｓ拟合及初始上升法对薄膜驻极体的...

关键词: 多孔 , SiO₂ , film , electret , characteristic

ZrO₂:CdS薄膜的光物理性质

黄为民 , 施剑林

无机材料学报

利用吸收和荧光光谱研究了ＺｒＯ_２：ＣｄＳ薄膜的光物理特性．实验观察到了随颗粒尺寸的减小ＣｄＳ的吸收带边的蓝移现象．研究了不同激发条件下的荧光光谱，发现了薄膜中ＣｄＳ的微弱的荧光发射．并且分析了介质效应对ＣｄＳ光学特性的影响．

关键词: ZrO₂ , film , CdS , optical properties

碳—氢—氯体系金刚石薄膜生长条件预测

万永中 , 张剑云 , 刘志杰 , 张卫 , 王季陶

材料研究学报

首次计算了碳—氢—氯体系中生长金刚石薄膜的相图,研究了该体系中金刚石生长区随衬底温度及氯含量变化的趋势,与实验结果符合较好计算结果表明,C—H—Cl系相图中金刚石生长区被限制在两个小三角形(CH4—H—HCl和CCh—HCl—Cl)中变化.可能生长金刚石薄膜的碳氢纪组分被严格地限制在金刚石生长区内,...

关键词: 金刚石 , film , thermodynamics , halogen

导电玻片上氧化亚铜膜的电沉积和表征

陈志钢 , 唐一文 , 贾志杰 , 张丽莎 , 李家麟 , 余颖

无机材料学报

研究了用简单铜盐通过阴极还原氧化亚铜的电化学行为,讨论了一些工艺因素对在导电玻片上电沉积Cu₂O薄膜的影响,并对所制备的Cu₂O薄膜分别用台阶仪、X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱(XPS)进行表征.得到的较佳工艺条件为:电...

关键词: 氧化亚铜 , electrodeposition , film , characterization

硅衬底Al₂O₃∶Tb³⁺薄膜的制备及其发光性能

石涛 , 周箭 , 申乾宏 , 杨辉

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2009.01105

采用溶胶凝胶法在硅衬底上制备了Al₂O₃∶Tb³⁺薄膜; 并采用DTA-TG、XRD、SEM、AFM及光致发光光谱对其进行了一系列表征; 分析了Al₂O₃

关键词: 溶胶-凝胶法 , Al₂O₃∶Tb³⁺ , film , photoluminescence

溶剂热电化学法制备Li_3+xV_1-xSi_xO₄薄膜

祝宝军1 , 陶颖2 , 张旸1 , 郑锐1 , 邹小林1

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2010.00631

采用溶剂热电化学法, 于SiO₂、V₂O₅、LiOH的乙醇溶液组成的反应体系中, 在Pt基体上制备出致密的Li_3+xV_1-xSi_x

关键词: 溶剂热电化学法 , solid electrolyte , film , thermodynamics analysis

La掺杂TiO₂膜的制备及其对甲苯的去除性能

孙剑 , 刘守新

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2010.00928

以钛酸四丁酯和硝酸镧为原料, 采用溶胶-凝胶法, 制备出La掺杂TiO₂膜. 采用X射线光电子能谱(XPS)、傅立叶红外(FTIR)、X射线衍射(XRD)、低温氮物理吸附、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见漫反射光谱(DRS)对光催化剂的晶相结构、光谱特征和表面结构进行表征....

关键词: 可见光 , La doped , TiO₂ , film , toluene

在南海海域铜合金8年腐蚀行为研究

李文军 , 刘大扬 , 魏开金

腐蚀学报（英文）

研究了7种铜合金在南海榆林站海水中8年的腐蚀行为结果表明,7种铜合金的平均腐蚀深度与时间关系符合H=aTb规律,其平均腐蚀速度随时间而下降,利用EPMA、X衍射分析了HSn62—1、QSn6.5-0.1腐蚀膜成分、结构与耐蚀性的关系.

关键词: 铜合金 , seawater , corrosion , regression analysis , film

用化学溶液沉积方法制备Pr_0.7Ca_0.3MnO₃薄膜

王群 , 董睿 , 陈立东

无机材料学报

混合价态的锰氧化物Pr_1-xCa_xMnO₃薄膜是近年来国际上超导体以及巨磁电阻领域的研究热点之一.本文采用化学溶液沉积方法在Pt/Ti/SiO₂/Si基底上制备出Pr_...

关键词: 混合价锰氧化物 , film , chemical solution deposition method

水溶性石墨烯及其高导电率薄膜的制备与表征

陈操 , 翟文涛 , 郑文革 , 卢叮叮 , 汪璟 , 沈斌 , 张好斌

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2011.00707

石墨烯表面不含含氧基团, 这导致石墨烯在水中很难分散. 制备具有水溶性的石墨烯是一个研究焦点. 本研究采用氧化石墨低温真空膨胀的方法, 通过调控氧化石墨烯的含氧基团数目, 制备具有水溶解性的石墨烯材料. AFM测试表明所制备的水溶性石墨烯的最小片层厚度约为1.7 nm, 尺寸为1.0 μm. 分散实...

关键词: 石墨烯 , film , electrical properties

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Si基多孔SiO₂薄膜的驻极体性能

ZrO₂:CdS薄膜的光物理性质

碳—氢—氯体系金刚石薄膜生长条件预测

导电玻片上氧化亚铜膜的电沉积和表征

硅衬底Al₂O₃∶Tb³⁺薄膜的制备及其发光性能

溶剂热电化学法制备Li_3+xV_1-xSi_xO₄薄膜

La掺杂TiO₂膜的制备及其对甲苯的去除性能

在南海海域铜合金8年腐蚀行为研究

用化学溶液沉积方法制备Pr_0.7Ca_0.3MnO₃薄膜

水溶性石墨烯及其高导电率薄膜的制备与表征

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