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秦高梧 , 郝士明 , 宋丹
金属学报
利用金相法及TEM研究了γ-TiAl基(γ十α2)双相合金初生(α2/γ)片层形成过程中的界面特征及形成方式.发现合金中初生α2/γ片层组织是通过α→αss2→α2+γ或α→α+γ→α2+γ相变方式形成的.γ片层的析出是通过在原α或αss2晶界处形核,以体积扩散控制的台阶机制生长,1000℃时γ片层的伸长速度约为(1.0—3.33)×10(-7)m/γ.并确定初生α2/γ界面为半共格,估算α2/γ界面能约为0.274J/m2.
关键词: 台阶机制 , interfacial dislocation , TiAl alloy , primary α2/γ lamellae , misfit