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光刻系统用氟化钙晶体的研究进展

董永军 , 周国清 , 杨卫桥 , 苏良碧 , 徐军

无机材料学报

解释了氟化钙晶体能被应用在光刻系统和掀起研究热潮的原因,概述了氟化钙晶体的研究和发展现状,指出了目前氟化钙晶体在研究和发展过程中要解决的重要问题和措施,最后对氟化钙晶体在光刻系统中的发展前景作了展望.

关键词: 氟化钙 , crystal , UV , lithography , semiconductor , null