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偏压对磁控溅射ZnO薄膜的成核机制及表面形貌演化动力学的影响

付伟佳 , 刘志文 , 谷建峰 , 刘明 , 张庆瑜

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J1077.2009.00602

利用反应射频磁控溅射技术，通过对基体施加负偏压溅射ZnO薄膜，探讨了固定偏压下ZnO薄膜的表面形貌随沉积时间的演化以及不同偏压对ZnO薄膜表面形貌的影响. 研究结果表明，在-100V的偏压下，随着沉积时间的增加，ZnO薄膜的表面岛尺寸不断减小，密度逐渐变大. ZnO在基片表面成核过程中的本征缺陷成核...

关键词: ZnO薄膜 , reactive radio-frequency magnetron sputtering , bias , morphological analysis

氧分压对磁控溅射ZnO薄膜生长行为和光学特性的影响

刘明 , 魏玮 , 曲盛薇 , 谷建峰 , 马春雨 , 张庆瑜

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2008.01096

采用反应射频磁控溅射方法, 在Si(001)基片上制备了具有高$c$轴择优取向的ZnO薄膜. 利用原子力显微镜、X射线衍射、透射光谱和室温光致荧光光谱等分析技术, 研究了氧分压对薄膜的表面形貌和光学特性的影响. 研究结果显示: 0.04～0.23Pa的氧分压范围内, ZnO薄膜存在三个不同的生长模式...

关键词: ZnO薄膜 , reactive radio-frequency magnetron sputtering , morphological analysis , optical properties

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