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等离子体源增强磁控溅射沉积Al₂O₃薄膜研究

雷明凯 , 袁力江 , 张仲麟

无机材料学报

采用电子回旋共振微波等离子体源增强磁控溅射沉积氧化铝薄膜.X射线光电子谱和X射线衍射分析表明,在600℃沉积温度下,Si（100）基片上获得了亚稳的具有化学计量配比成分、面心立方结构的γ-Al₂O₃薄膜.薄膜的折射率为1.7,与稳定的α-Al₂O₃体材料相当.

关键词: 氧化铝薄膜 , plasma source , magnetron sputtering , refractive index