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化学气相沉积SiC膜{111}取向生长的原子尺度模拟

刘翠霞 , 杨延清 , 黄斌 , 张荣军 , 罗贤 , 任晓霞

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2008.00933

在化学气相沉积SiC膜过程中, 分别考虑了化学反应的动力学以及基底表面原子的沉积与扩散, 利用动力学蒙特卡罗方法, 建立了SiC膜{111}取向的三维原子尺度模型, 使用MATLAB模拟了原子尺度的SiC膜{111}取向生长过程. 模拟结果表明: 膜的生长经历了小岛的生成、小岛的合并与扩展、小岛间达到动态平衡三个阶段. 随着温度的升高, 膜的生长速率、表面粗糙度以及膜的厚度都增大. 随着生长速率的增大, 表面粗糙度增大, 相对密度减小. 模拟结果与理论和实验具有较好的吻合性.

关键词: 化学气相沉积 , chemical vapor deposition , kinetic monte carlo simulation , surface roughness , relative density

烧结助剂对高纯氧化铝陶瓷致密化过程的作用

殷剑龙 , 王修慧 , 张野 , 赵春娟 , 王絮 , 高宏 , 杨金龙

稀土

分别以TiO2和MgO-La2O3复合物为烧结助剂,采用常压烧结工艺制备高纯氧化铝陶瓷.探讨了两类烧结助剂对氧化铝陶瓷显微结构的影响,并分析了其气孔排出过程.结果表明,添加TiO2可以降低高纯氧化铝陶瓷的烧结温度,易发生晶粒二次长大、形成晶内孔.添加MgO-La2O3复合烧结助剂降低烧结温度同时产生第二相物质,阻碍晶界迁移,减小晶粒尺寸,提高坯体致密度.

关键词: 高纯氧化铝陶瓷 , 烧结助剂 , 致密度 , 气孔

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