刘翠霞
,
杨延清
,
黄斌
,
张荣军
,
罗贤
,
任晓霞
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2008.00933
在化学气相沉积SiC膜过程中, 分别考虑了化学反应的动力学以及基底表面原子的沉积与扩散, 利用动力学蒙特卡罗方法, 建立了SiC膜{111}取向的三维原子尺度模型, 使用MATLAB模拟了原子尺度的SiC膜{111}取向生长过程. 模拟结果表明: 膜的生长经历了小岛的生成、小岛的合并与扩展、小岛间达到动态平衡三个阶段. 随着温度的升高, 膜的生长速率、表面粗糙度以及膜的厚度都增大. 随着生长速率的增大, 表面粗糙度增大, 相对密度减小. 模拟结果与理论和实验具有较好的吻合性.
关键词:
化学气相沉积
,
chemical vapor deposition
,
kinetic monte carlo simulation
,
surface roughness
,
relative density
苏青峰
,
夏义本
,
王林军
,
史伟民
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2006.00499
采用激光抛光和热化学抛光相结合的方法, 对通过热丝CVD方法生长的金刚石薄膜进行了复合抛光处理. 并利用X射线衍射仪(XRD)、拉曼光谱仪(Raman)、扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)对金刚石薄膜进行了表征. 结果表明, 所合成的金刚石薄膜是高质量的多晶(111)取向膜; 经复合抛光后, 金刚石薄膜的结构没有因抛光而发生改变, 金刚石薄膜的表面粗糙度明显降低, 光洁度大幅度提高, 表面粗糙度R a在100nm左右, 基本可以达到应用的要求.
关键词:
CVD金刚石薄膜
,
composite polishing
,
surface roughness
自兴发
,
杨雯
,
杨培志
,
彭柳军
,
邓双
,
宋肇宁
人工晶体学报
利用脉冲磁控溅射制备技术,采用单质金属铜靶作为溅射靶,在氧气(O2)和氩气(Ar)的混合气氛下,在石英玻璃衬底上制备了Cu2O薄膜.研究了溅射功率对脉冲反应磁控溅射沉积法在室温下对生长Cu2O薄膜结构、表面形貌及光学性能的影响.结果表明,在O2、Ar流量比(O2/Ar)为30∶80的气氛条件下,在60～90 W的溅射功率范围内可获得＜ 111＞取向的Cu2O薄膜;薄膜的表面粗糙度的均方根值随溅射功率的增加而增大;薄膜的光谱吸收范围为300 ～670 nm,不同溅射功率下制备的薄膜均在430 nm附近出现明显的带边吸收,其光学带隙(Eg)在2.15～2.53 eV之间变化.
关键词:
Cu2O薄膜
,
溅射功率
,
表面粗糙度
,
光学带隙
王金普
,
白林山
,
储向峰
人工晶体学报
利用自制的抛光液对硬盘微晶玻璃基板进行化学机械抛光.研究了抛光压力、SiO2浓度、pH和氧化剂过硫酸铵浓度等因素对材料去除速率MRR和表面粗糙度Ra的影响,系统分析了微晶玻璃抛光工艺过程中的影响因素,优化抛光工艺条件,利用原子力显微镜检测抛光后微晶玻璃的表面粗糙度.结果表明:当抛光盘转速为100 r/min、抛光液流量为25 mL/min、抛光压力为9.4 kPa、SiO2浓度为8wt％、pH=8、过硫酸铵浓度为2wt％时,能够得到较高的去除速率(MRR=86.2 nm/min)和较低表面粗糙度(Ra=0.1 nm).
关键词:
微晶玻璃
,
化学机械抛光
,
表面粗糙度
,
材料去除率
郝晓东
,
刘昕
,
张建
,
张启富
腐蚀与防护
不同表面粗糙度的冷轧板进行磷化处理后,采用T1000粗糙度仪对基板表面粗糙度进行测定,通过脱膜法、扫描电镜、摩擦试验机对磷化膜膜重、表面形貌、摩擦系数和耐磨性进行了研究.结果表明,基板表面粗糙度对磷化膜膜重影响不大;表面粗糙度较小,则形成的磷化膜均匀致密且粒径较小,磷化膜摩擦系数相对较大,耐磨性相对较差;反之若表面粗糙度较大,则形成的磷化膜相对疏松粒径较大,磷化膜表面摩擦系数较小,耐磨性较好.
关键词:
冷轧板
,
表面粗糙度
,
磷化
,
摩擦系数
,
耐磨性
高战军
,
陈治明
,
李连碧
,
赵萌
,
黄磊
人工晶体学报
在热壁LPCVD系统中利用间隔生长法在6H-SiC衬底上淀积Si薄膜,采用XRD、SEM、激光共聚焦显微镜和拉曼光谱对Si薄膜的表面形貌和结构进行表征.结果表明:相比于连续生长法,用间隔法制备Si薄膜的速率有所降低,但表面粗糙度有所减小,同时晶粒尺寸也增大.XRD测试结果表明:间隔法可以控制薄膜生长的择优取向.Raman光谱测试结果表明:采用间隔法且断源时间控制在30 s时,生长温度900℃,H2∶ SiH4 =400∶20 sccm时生长Si薄膜的Raman半峰宽最小.
关键词:
热壁LPCVD
,
多晶Si薄膜
,
择优取向
,
表面粗糙度
梁庆瑞
,
宗艳民
,
王希杰
,
陈秀芳
,
徐现刚
,
胡小波
人工晶体学报
研究了金刚石微粉对碳化硅晶片表面机械抛光质量及去除率的影响.选取粒径均为W0.5～1μm、粒径分布和形貌不同的3种金刚石微粉,配置3种SiC单晶片机械抛光液.通过纳米粒度仪和扫描电镜分别测试了金刚石微粉的粒度分布和微观形貌.使用原子力显微镜测试了SiC晶片机械抛光后表面粗糙度.金刚石微粉的微观形貌越圆滑,粒径分布越集中,抛光后晶片的表面质量越好.金刚石微粉中单个颗粒的表面棱角有利于提高材料去除率.
关键词:
碳化硅
,
金刚石微粉
,
机械抛光
,
表面粗糙度
丁坤英
,
孙振
,
路鹏程
稀有金属材料与工程
利用超音速火焰喷涂技术将4种不同致密度WC 10Co4Cr粉末制备成涂层.采用扫描电镜、X射线衍射仪、显微硬度计、表面粗糙度仪等设备对涂层的微观组织、结构特征进行分析.结果表明,随着致密度的降低,团聚烧结型粉末与基体撞击后更容易铺展,碳化钨微粒分布变得更均匀,形成的涂层具有更低的孔隙率和表面粗糙度;但是随着致密度的降低,碳化钨分解率升高,形成更多的脆硬相,最终使得涂层断裂韧性下降.由此可知,致密程度影响粉末颗粒在热喷涂过程中加热、加速和铺展状态,从而影响涂层的结构特征.
关键词:
粉末致密度
,
超音速火焰喷涂
,
孔隙率
,
表面租糙度
,
断裂韧性
龙萍
,
许立坤
,
薛丽莉
,
唐益
,
辛永磊
稀有金属材料与工程
采用热分解法制备Ti/Ru(1-x)LaxO2(0≤x≤0.7)氧化物涂层,通过极化曲线和循环伏安法对该系列涂层在3.5％NaCl溶液中的电化学行为进行了研究.结果表明,加镧的钌氧化物涂层具有更高的交换电流密度,更小的极化电阻和更大的伏安电荷,且当La浓度达到30 mol％时,表面电化学活性达到最大值.钌锎氧化物涂层的内活性表面积远大于外活性表面积,但随着含La量的增加,内活性表面积下降较大.
关键词:
镧
,
RuO2
,
活性表面积
,
伏安电荷
,
表面粗糙度
