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掺磷四面体非晶碳薄膜的电学性能

刘爱萍朱嘉琦唐为华李超荣

金属学报 doi:10.3724/SP.J.1037.2009.00538

采用过滤阴极真空电弧技术以PH₃为掺杂源, 施加0-200 V基底负偏压, 制备了掺磷四面体非晶碳(ta-C∶P)薄膜. 利用X射线光电子能谱(XPS)和Raman光谱研究ta-C∶P薄膜的微观结构,通过测定变温电导率和电流-电压曲线, 考察ta-C∶P薄膜的导电行为. 结果表...

关键词: 掺磷 , tetrahedral amorphos carbon , substrate bias , electrical conductivity , conduction mechanism